[发明专利]非挥发内存的重置方法有效
| 申请号: | 200710001281.2 | 申请日: | 2007-01-16 |
| 公开(公告)号: | CN101226942A | 公开(公告)日: | 2008-07-23 |
| 发明(设计)人: | 郭明昌 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L27/115 | 分类号: | H01L27/115;G11C16/02 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 周国城 |
| 地址: | 台湾省新竹*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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| 摘要: | 本发明一种非挥发内存的重置方法,此非挥发内存包括第一导电型基底上的多个记忆胞,其中每一记忆胞包括部分基底、控制闸、此部分基底及控制闸之间的电荷储存层,以及此部分基底中的二第二导电型源/漏极区。此重置方法是利用双边偏压-频带穿隧热电洞效应来进行,包括在基底上施加第一电压,并在各源/漏极区上施加第二电压,其与第一电压的差足以产生频带穿隧热电洞;并包括控制各控制闸上所施加的闸电压以及该些电压的施加时间,以使各记忆胞所具有的启始电压收敛至一可容许范围内。 | ||
| 搜索关键词: | 挥发 内存 重置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种非挥发内存的重置方法,其特征在于:该非挥发内存包括一第一导电型基底上的多个记忆胞,其中每一记忆胞包括部分该基底、一控制闸、该部分基底及控制闸之间的一电荷储存层,以及该部分基底中的二第二导电型源/漏极区,该方法是利用双边偏压-频带穿隧热电洞效应来进行,包括:在该基底上施加一第一电压,并在各该二源/漏极区上施加一第二电压,其与该第一电压的差足以产生频带穿隧热电洞;以及控制各该控制闸上所施加的一闸电压以及该些电压的一施加时间,以使该些记忆胞所具有的启始电压收敛至一可容许范围内。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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