[发明专利]半导体器件的制造方法无效
| 申请号: | 200710001218.9 | 申请日: | 2007-01-04 |
| 公开(公告)号: | CN101071777A | 公开(公告)日: | 2007-11-14 |
| 发明(设计)人: | 海沼则夫;吉良秀彦;小八重健二;中村公保;石川邦子;尾崎行雄 | 申请(专利权)人: | 富士通株式会社 |
| 主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50 |
| 代理公司: | 隆天国际知识产权代理有限公司 | 代理人: | 张龙哺 |
| 地址: | 日本神奈*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 一种半导体器件的制造方法,其通过固相扩散使基板和半导体芯片的电极端子倒装芯片结合在一起,并用热塑性树脂底部填充所述基板和半导体芯片之间的间隙,而不会由于底部填料硬化步骤中的热破坏所述电极端子之间的结合。该制造方法包括通过固相扩散使基板和半导体芯片的电极端子倒装芯片结合的结合步骤,用底部填充材料填充基板和半导体芯片之间间隙的底部填料填充步骤,以及将底部填充材料加热至硬化温度以硬化所述底部填充材料的底部填料硬化步骤。在所述底部填料硬化步骤期间,将在基板和半导体芯片中的具有较低热膨胀系数的构件加热至比另一个构件更高的温度。 | ||
| 搜索关键词: | 半导体器件 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种半导体器件的制造方法,包括:结合步骤,在该步骤中通过固相扩散将基板的电极端子与半导体芯片的电极端子倒装芯片结合;底部填料填充步骤,在该步骤中用包括热塑性树脂的底部填充材料填充该基板与该半导体芯片之间的间隙;以及底部填料硬化步骤,在该步骤中将该底部填充材料加热至硬化温度以硬化该底部填充材料,其中在该底部填料硬化步骤中,将该基板和该半导体芯片中的具有较低热膨胀系数的构件加热至比该基板和该半导体芯片中的另一个构件更高的温度。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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