[发明专利]面心立方结构电容及其制造方法

摘要

本发明公开了一种面心立方结构电容及其制造方法，该面心立方结构电容由一第一、第二金属层以及连接第一与第二金属层的连接层所组成，其中第一金属层由数条第一、第二金属线与数个第一金属块组成，该第一、第二金属线相互交叉形成一个网格结构，每一该第一金属块设置于该网格结构的一网格中；第二金属层由数条第三、第四金属线与数个第二金属块组成，该第三、第四金属线相互交叉形成一个网格结构，每一该第二金属块设置于该网格结构的一网格中；连接层由数个第三、第四金属块组成，每一该第三金属块连接每一该第一金属块与该第三、第四金属线的交叉处，每一该第四金属块连接每一该第二金属块与该第一、第二金属线的交叉处。

主权项

1.一种面心立方结构电容，其特征在于，包括有：一第一金属层，其由数条第一金属线、数条第二金属线与数个第一金属块组成，该第一金属线与该第二金属线相互交叉以形成一个网格结构，每一该第一金属块设置于该网格结构的每一网格中；一第二金属层，其由数条第三金属线、数条第四金属线与数个第二金属块组成，该第三金属线与该第四金属线相互交叉以形成一个网格结构，每一该第二金属块设置于该网格结构的每一网格中；以及一连接层，由数个第三金属块与数个第四金属块组成，其中每一该第三金属块连接每一该第一金属块与该第三金属线与该第四金属线的交叉处，每一该第四金属块连接每一该第二金属块与该第一金属线与该第二金属线的交叉处。