[发明专利]面心立方结构电容及其制造方法

权利要求书

1.一种面心立方结构电容，其特征在于，包括有：

一第一金属层，其由数条第一金属线、数条第二金属线与数个第一金属块组成，该第一金属线与该第二金属线相互交叉以形成一个网格结构，每一该第一金属块设置于该网格结构的每一网格中；

一第二金属层，其由数条第三金属线、数条第四金属线与数个第二金属块组成，该第三金属线与该第四金属线相互交叉以形成一个网格结构，每一该第二金属块设置于该网格结构的每一网格中；以及

一连接层，由数个第三金属块与数个第四金属块组成，其中每一该第三金属块连接每一该第一金属块与该第三金属线与该第四金属线的交叉处，每一该第四金属块连接每一该第二金属块与该第一金属线与该第二金属线的交叉处。

2.根据权利要求1所述的面心立方结构电容，其特征在于，该第一金属线彼此间相互平行，该第二金属线彼此间相互平行。

3.根据权利要求1所述的面心立方结构电容，其特征在于，该第三金属线彼此间相互平行，该第四金属线彼此间相互平行。

4.根据权利要求1所述的面心立方结构电容，其特征在于，该第一金属线与该第二金属线相互垂直的交叉以形成一个网格结构。

5.一种面心立方结构电容，其特征在于，包括有：

数层第一金属层，其由数条第一金属线、数条第二金属线与数个第一金属块组成，该第一金属线与该第二金属线相互交叉以形成一个网格结构，每一该第一金属块设置于该网格结构的每一网格中；

数层第二金属层，其由数条第三金属线、数条第四金属线与数个第二金属块组成，该第三金属线与该第四金属线相互交叉以形成一个网格结构，每一该第二金属块设置于该网格结构的每一网格中，其中每一该第一金属层与每一该第二金属层交错排列；以及

数层连接层，每一该连接层连接每一该第一金属层与每一该第二金属层，该连接层由数个第三金属块与数个第四金属块组成，其中每一该第三金属块连接每一该第一金属块与该第三金属线与该第四金属线的交叉处，每一该第四金属块连接每一该第二金属块与该第一金属线与该第二金属线的交叉处。

6.根据权利要求5所述的面心立方结构电容，其特征在于，该第一金属线彼此间相互平行，该第二金属线彼此间相互平行。

7.根据权利要求5所述的面心立方结构电容，其特征在于，该第三金属线彼此间相互平行，该第四金属线彼此间相互平行。

8.根据权利要求5所述的面心立方结构电容，其特征在于，该第一金属线与该第二金属线相互垂直的交叉以形成一个网格结构。

9.一种面心立方结构电容的制造方法，其特征在于，包括有：

形成一第一金属层，该第一金属层由数条第一金属线、数条第二金属线与数个第一金属块组成，该第一金属线与该第二金属线相互交叉以形成一个网格结构，该第一金属块设置于该第一金属线与该第二金属线相互交叉所形成的每一网格结构中；

形成一接触层，该接触层由数个第三金属块与数个第四金属块组成，其中每一该第三金属块连接每一该第一金属块，每一该第四金属块连接该第一金属线与该第二金属线的交叉处；以及

形成一第二金属层，该第二金属层由数条第三金属线、数条第四金属线与数个第二金属块组成，该第三金属线与该第四金属线相互交叉以形成一个网格结构，第二金属块设置于该第三金属线与该第四金属线相互交叉所形成的每一网格结构中，其中该第二金属块与该连接层的该第四金属块连接，该第三金属线与该第四金属线与该连接层的该第三金属块连接。

10.根据权利要求9所述的制造方法，其特征在于，还包括有在该第一金属层的空隙填入介电材料的步骤。

11.根据权利要求9所述的制造方法，其特征在于，还包括有在该连接层的空隙填入介电材料的步骤。

12.根据权利要求9所述的制造方法，其特征在于，还包括有在该第二金属层的空隙填入介电材料的步骤。