[发明专利]用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法有效
| 申请号： | 200710000117.X | 申请日： | 2007-01-05 |
| 公开（公告）号： | CN101109906A | 公开（公告）日： | 2008-01-23 |
| 发明（设计）人： | 陈南荣;彭瑞君;洪若信;杨安国 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人： | 刘新宇 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法。将一影像感测器阵列曝光于一光源的光。收集对应于一瞳孔图像的多个位置的地址及个别的强度，其是表示该光源的光在该影像感测器阵列上的强度。依据收集的该地址及强度，定义该瞳孔图像的内曲线及外曲线的至少其中之一。若该地址具有一预设的模式与该内曲线及该外曲线中至少其中之一相关，将该光源用于一光刻制程。本发明所述的用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，能较好的决定光源的品质，产生合适的光刻图案并改良后续制程。 | ||
| 搜索关键词： | 用以 决定 应用于 刻制 光源 品质 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，其特征在于，该用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法包括：将一影像感测器阵列曝光于一光源的光；收集对应于一瞳孔图像的多个位置的地址及个别的强度，其是表示该光源的光在该影像感测器阵列上的强度；依据收集的该地址及该强度，定义该瞳孔图像的内曲线及外曲线的至少其中之一；以及若该地址具有一预设的模式与该内曲线及该外曲线中至少其中之一相关，将该光源用于一光刻制程。
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