[发明专利]用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法

权利要求书

1.一种用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，其特征在于，该用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法包括：

将一影像感测器阵列曝光于一光源的光；

收集对应于一瞳孔图像的多个位置的地址及个别的强度，其是表示该光源的光在该影像感测器阵列上的强度；

依据收集的该地址及该强度，定义该瞳孔图像的内曲线及外曲线的至少其中之一；以及

若该地址具有一预设的模式与该内曲线及该外曲线中至少其中之一相关，将该光源用于一光刻制程。

2.根据权利要求1所述的用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，其特征在于，该内曲线及该外曲线包含下列至少其中之一：圆形、椭圆形及一大致圆形。

3.根据权利要求1所述的用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，其特征在于，该内曲线的半径是定义为从该瞳孔图像中央到对应于总强度的7.5％～12.5％的地址的距离，其中该总强度是为该收集的强度之和。

4.根据权利要求1所述的用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，其特征在于，该内曲线的地址对应的强度等于标准化强度。

5.根据权利要求4所述的用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，其特征在于，几乎所有的对应于该标准化强度的10％的地址，都落在一第一环与一第二环之间的范围，其中该第一环围住对应于总强度的7.5％的多个地址，该第二环围住对应于该总强度的12.5％的多个地址。

6.根据权利要求1所述的用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，其特征在于，该外曲线围住的点对应的地址是为在总强度的87.5％及92.5％之间。

7.根据权利要求6所述的用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，其特征在于，该外曲线的地址对应的强度等于标准化强度。

8.根据权利要求7所述的用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，其特征在于，几乎所有的对应于该标准化强度的90％的地址，都落在一第一环与一第二环之间的范围，其中该第一环围住对应于该总强度的87.5％的多个地址，该第二环围住对应于该总强度的92.5％的多个地址。

9.根据权利要求1所述的用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，其特征在于，进一步包含：

将该地址及该强度转换为一三次元图像；

定义该内曲线，其围住的地址的强度和为总强度的10％；

定义该外曲线，其围住的地址的强度和为该总强度的90％；以及

将该三次元图像横剖，以产生介于该内曲线及该外曲线之间的一强度分布模式。

10.根据权利要求9所述的用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，其特征在于，该强度分布模式是由一多项式回归方法所产生。

11.根据权利要求1所述的用以决定应用于光刻制程的光源品质的方法，其特征在于，进一步包含：

将该地址及该强度转换为一三次元图像；

定义该内曲线，其围住的地址的强度和为总强度的7.5％～12.5％；

定义该外曲线，其围住的地址的强度和为该总强度的87.5％～92.5％；以及

将该三次元图像横剖，以产生介于该内曲线及该外曲线之间的一强度分布模式。