[发明专利]在反射模式下工作的发光传感器有效

专利信息
申请号: 200680048526.0 申请日: 2006-12-19
公开(公告)号: CN101346621A 公开(公告)日: 2009-01-14
发明(设计)人: M·M·J·W·范赫佩恩;D·J·W·克隆德;H·R·施塔伯特 申请(专利权)人: 皇家飞利浦电子股份有限公司
主分类号: G01N21/63 分类号: G01N21/63
代理公司: 永新专利商标代理有限公司 代理人: 邬少俊;王英
地址: 荷兰艾*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要: 发明涉及一种发光传感器(10),例如发光生物传感器或发光化学传感器,其包括具有第一横向尺寸和第二横向尺寸的至少一个孔(1),所述第一横向尺寸大于激发辐射(3)在填充至少一个孔(1)的介质中的衍射极限,所述第二横向尺寸小于激发辐射(3)在填充至少一个孔(1)的介质中的衍射极限。本发明还涉及用于检测由至少一个孔(1)中的至少一个光学可变分子(2)如荧光体产生的发光辐射(5)如荧光辐射的方法。优选地,使激发辐射(3)偏振以抑制孔(1)中的激发辐射(3)。根据本发明的发光传感器(10)能够检测相对低浓度的光学可变分子(2),例如荧光体。
搜索关键词: 反射 模式 工作 发光 传感器
【主权项】:
1、一种发光传感器(10),包括:用于被介质填充的至少一个孔(1);存在于所述至少一个孔(1)中的至少一个光学可变分子(2);激发辐射源,用于利用激发辐射(3)照射所述至少一个孔(1),以激发所述至少一个光学可变分子(2);以及用于检测由所述至少一个光学可变分子(2)产生的发光辐射(5)的检测器(12),其中所述至少一个孔(1)具有第一横向尺寸和第二横向尺寸,所述第一横向尺寸大于所述激发辐射(3)在所述介质中的衍射极限,所述第二横向尺寸小于所述激发辐射(3)在所述介质中的衍射极限,并且其中所述激发辐射源和所述检测器(12)位于所述传感器(10)的同一侧。
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