[发明专利]用于防止在微阵列扫描中的过分曝光和光泄漏的掩模

摘要

微阵列的扫描是通过能够曝光微阵列上的多个但不是所有位置的掩模来实现的，并且掩模可相对于微阵列移动或者微阵列可相对于掩模移动，或者两者兼之。掩模作为在扫描头的行进处于待机、目标速度时限制对能够照明的微阵列上的微阵列位置的照明的部件是十分有用的，它能够在扫描头轨迹中的一些扫描头加速或者减速的点上阻止光在扫描头和微阵列之间的通过。通过防止光泄漏到与正在扫描的位置相邻的位置上，掩模可以十分有效地减小在微阵列成像中的背景噪声。

主权项

1. 一种适用于微阵列的扫描照明系统，包括：样品支架，它包括在空间上隔开的、以两维微阵列方式排列的样品位置，所述两维微阵列是由沿x轴具有选定宽度的行以及沿y轴具有选定长度的列所构成；包括光源的扫描头；x轴扫描部件，用于使所述扫描头沿着平行于所述x轴的行进路径以往返移动的方式相对于所述样品支架而移动；定位在所述样品支架和所述扫描头之间的掩模，所述掩模阻止来自所述光源的光除了通过一个窗口以外就无法到达所述样品支架，所述窗口具有平行于所述x轴的宽度，它露出了一行中的多个样品位置并且在长度上短于所述扫描头的所述行进路径；以及，移动部件，用于通过(i)使所述掩模相对于所述样品支架和扫描头而移动或者(ii)使所述样品支架和扫描头相对于所述掩模而移动从而改变通过所述窗口露出的所述样品位置。