[发明专利]用于防止在微阵列扫描中的过分曝光和光泄漏的掩模

权利要求书

1.一种适用于微阵列的扫描照明系统，包括：

样品支架，它包括在空间上隔开的、以两维微阵列方式排列的样品位置，所述两维微阵列是由沿x轴具有选定宽度的行以及沿y轴具有选定长度的列所构成；

包括光源的扫描头；

x轴扫描部件，用于使所述扫描头沿着平行于所述x轴的行进路径以往返移动的方式相对于所述样品支架而移动；

定位在所述样品支架和所述扫描头之间的掩模，所述掩模阻止来自所述光源的光除了通过一个窗口以外就无法到达所述样品支架，所述窗口具有平行于所述x轴的宽度，它露出了一行中的多个样品位置并且在长度上短于所述扫描头的所述行进路径；以及，

移动部件，用于通过(i)使所述掩模相对于所述样品支架和扫描头而移动或者(ii)使所述样品支架和扫描头相对于所述掩模而移动从而改变通过所述窗口露出的所述样品位置。

2.如权利要求1所述的扫描照明系统，其特征在于，所述窗口露出了在一行中的不止一个但小于所有的所述样品位置，并且所述移动部件是适用于(i)使所述掩模沿着所述x轴相对于所述样品支架和扫描头而移动或者(ii)使所述样品支架和扫描头沿着所述x轴相对于所述掩模而移动的x轴移动部件。

3.如权利要求1所述的扫描照明系统，其特征在于，所述移动部件使所述掩模沿着所述x轴相对于所述样品支架和扫描头而移动。

4.如权利要求1所述的扫描照明系统，其特征在于，所述移动部件使所述样品支架和扫描头沿着所述x轴相对于所述掩模而移动。

5.如权利要求1所述的扫描照明系统，其特征在于，所述窗口具有平行于所述y轴的长度，它露出了所述行中的仅一行的样品位置。

6.如权利要求1所述的扫描照明系统，其特征在于，还包括用于使所述样品支架沿着所述y轴相对于所述掩模和所述扫描头而移动的部件。

7.如权利要求1所述的扫描照明系统，其特征在于，所述x轴扫描部件使得所述扫描头在所述行进路径的多个部分内在其每一端处加速和减速，并且当所述扫描头处于所述多个部分内时所述掩模阻止光的通过。

8.如权利要求1所述的扫描照明系统，其特征在于，所述x轴扫描部件是运动线圈致动器。

9.如权利要求1所述的扫描照明系统，其特征在于，所述x轴扫描部件是运动线圈致动器，而所述x轴移动部件是步进电机。

10.如权利要求1所述的扫描照明系统，还包括聚焦透镜，其中，所述掩模介于所述扫描头和所述聚焦透镜之间。

11.一种适用于扫描在两维微阵列中的位置阵列的方法，所述两维微阵列是由沿x轴具有选定宽度的行和沿y轴具有选定长度的列所构成的；所述方法包括：

(a)用扫描头通过掩模来照明所述微阵列，所述掩模用于阻止来自所述扫描头的光除了通过一个窗口就无法到达所述微阵列，所述窗口露出了在一行中的多个第一位置，同时使扫描头沿着所述x轴在所述多个位置上沿着超出所述窗口的宽度的行进路径而移动；以及，

(b)使所述微阵列相对于所述掩模而移动从而通过所述窗口露出所述微阵列的多个第二位置，并且通过使所述扫描头沿着x轴移动来照明多个第二位置。

12.如权利要求11所述的方法，其特征在于，所述多个第一位置是在一行中的不止一个但小于所有的所述位置，其中步骤(b)包括使所述微阵列沿着所述y轴相对于所述扫描头而移动从而露出多个第二位置，并且所述方法还包括：

(c)在选定数量的行上重复步骤(b)；以及，

(d)通过(i)使所述掩模沿着x轴相对于所述微阵列和扫描头而移动或者(ii)使所述微阵列和扫描头沿着x轴相对于所述掩模而移动从而移动通过所述窗口而露出的所述样品位置。

13.如权利要求12所述的方法，其特征在于，步骤(d)包括使所述掩模沿着x轴相对于所述微阵列和扫描头而移动。

14.如权利要求12所述的方法，其特征在于，步骤(d)包括使所述微阵列和扫描头沿着x轴相对于所述掩模而移动。

15.如权利要求11所述的方法，其特征在于，所述窗口具有平行于所述y轴的长度，它露出了所述行中的仅一行的样品位置。