[发明专利]信息记录介质及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200680044701.9 申请日: 2006-11-01
公开(公告)号: CN101317225A 公开(公告)日: 2008-12-03
发明(设计)人: 槌野晶夫;西原孝史;儿岛理惠 申请(专利权)人: 松下电器产业株式会社
主分类号: G11B7/24 分类号: G11B7/24;G11B7/254;G11B7/243;G11B7/257
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 汪惠民
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种不含S元素的电介质材料,并提供一种即使在反射层和电介质层之间不设置界面层、仍能得到高信号品质且记录灵敏度及重写特性优良的信息记录介质。为此,在本申请中,信息记录介质至少具备记录层,所述记录层因照射激光束或者施加电流而发生相变,其具备包含In元素、元素M1、氧元素(O)、元素M2、氟元素(F)的氧化物-氟化物电介质层,其中,M1为选自Zr、Hf、Y、Ti、Nb、Ta、Cr、Ga及Si的至少一种元素,M2为选自La、Ce、Pr、Nd、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Yb、Mg、Ca及Sr的至少一种元素。
搜索关键词: 信息 记录 介质 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种信息记录介质,至少具备记录层,所述记录层通过照射激光束或者施加电流而发生相变,所述信息记录介质具备氧化物-氟化物电介质层,该氧化物-氟化物电介质层包含:In元素、元素M1、氧元素(O)、元素M2、氟元素(F),其中,M1为选自Zr、Hf、Y、Ti、Nb、Ta、Cr、Ga及Si的至少一种元素,M2为选自La、Ce、Pr、Nd、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Yb、Mg、Ca及Sr的至少一种元素。
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