[发明专利]信息记录介质及其制造方法无效
| 申请号: | 200680044701.9 | 申请日: | 2006-11-01 |
| 公开(公告)号: | CN101317225A | 公开(公告)日: | 2008-12-03 |
| 发明(设计)人: | 槌野晶夫;西原孝史;儿岛理惠 | 申请(专利权)人: | 松下电器产业株式会社 |
| 主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24;G11B7/254;G11B7/243;G11B7/257 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汪惠民 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | 本发明提供一种不含S元素的电介质材料,并提供一种即使在反射层和电介质层之间不设置界面层、仍能得到高信号品质且记录灵敏度及重写特性优良的信息记录介质。为此,在本申请中,信息记录介质至少具备记录层,所述记录层因照射激光束或者施加电流而发生相变,其具备包含In元素、元素M1、氧元素(O)、元素M2、氟元素(F)的氧化物-氟化物电介质层,其中,M1为选自Zr、Hf、Y、Ti、Nb、Ta、Cr、Ga及Si的至少一种元素,M2为选自La、Ce、Pr、Nd、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Yb、Mg、Ca及Sr的至少一种元素。 | ||
| 搜索关键词: | 信息 记录 介质 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1、一种信息记录介质,至少具备记录层,所述记录层通过照射激光束或者施加电流而发生相变,所述信息记录介质具备氧化物-氟化物电介质层,该氧化物-氟化物电介质层包含:In元素、元素M1、氧元素(O)、元素M2、氟元素(F),其中,M1为选自Zr、Hf、Y、Ti、Nb、Ta、Cr、Ga及Si的至少一种元素,M2为选自La、Ce、Pr、Nd、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Yb、Mg、Ca及Sr的至少一种元素。
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