[发明专利]使用大面积X射线源的去污及消毒系统

摘要

本发明涉及一种新的x射线处理系统，其利用引导至目标区(829)中的一个或多个大面积平板x射线辐射源(821，823，825，827)。以来自该一个或多个平板源的x射线辐射(831，833，835，837)来照射该目标区内的目标物，从而降低该目标物中的污染物存在的生物效应。该平板源包含电子源、电子加速器及电子目标介质。该电子源可经由场发射或热离子发射来发射电子。该x射线源可以透射、反射或组合的透射/反射模式来操作。在本发明的系统中使用大面积平板x射线源允许降低安装及操作成本以及提高效率。

主权项

1.一种照射目标物以降低该目标物中的污染物存在的生物效应的方法，该方法包含：提供具有宽度尺寸及高度尺寸的至少一个平板x射线辐射源；将该目标物置于具有宽度尺寸及高度尺寸的目标区内，该宽度尺寸及高度尺寸与该至少一个平板x射线源的宽度尺寸及高度尺寸对准且基本上相同，或小于该至少一个平板x射线源的宽度尺寸及高度尺寸；及以来自该至少一个平板源的辐射照射该目标物，从而降低该目标物中的该污染物存在的该生物效应。