[发明专利]使用大面积X射线源的去污及消毒系统

权利要求书

1.一种照射目标物以降低该目标物中的污染物存在的生物效应的方法， 该方法包含：

提供具有宽度尺寸及高度尺寸的至少一个平板x射线辐射源；

将该目标物置于具有宽度尺寸及高度尺寸的目标区内，该宽度尺寸及高 度尺寸与该至少一个平板x射线源的宽度尺寸及高度尺寸对准且基本上相 同，或小于该至少一个平板x射线源的宽度尺寸及高度尺寸；及

以来自该至少一个平板源的辐射照射该目标物，从而降低该目标物中的 该污染物存在的该生物效应。

2.权利要求1的方法，其中该目标物包含能食用物质。

3.权利要求1的方法，其中该污染物为细菌、真菌或病毒，且其中该污 染物存在的该生物效应的降低包括杀灭足以实质上降低该目标物的消费者 的感染风险的数量的该污染物。

4.权利要求1的方法，其中该污染物为细菌、真菌或病毒，且其中该污 染物存在的该生物效应的降低包括杀灭足以实质上降低该目标物的腐败的 数量的该污染物。

5.权利要求1的方法，其中该污染物为化学制品，且其中该污染物存在 的该生物效应的降低包括化学改性足以实质上降低该目标物的消费者的毒 性反应的风险的数量的该污染物。

6.权利要求1的方法，其中照射该目标物以降低该目标物中的该污染物 存在的生物效应包括以预定剂量水平照射该目标物预定的时间。

7.权利要求1的方法，其中该一个或多个平板x射线辐射源包含栅极场 发射体电子源，且以选自仅反射、仅透射及组合的反射/透射的模式进行操作。

8.权利要求1的方法，其中该一个或多个平板x射线辐射源包含热离子 发射体电子源，且以选自仅反射、仅透射及组合的反射/透射的模式进行操作。

9.权利要求1的方法，其中该至少一个平板x射线辐射源包含经配置以 照射该目标区的多个平板x射线辐射源，且其中该以来自该平板源的辐射照 射该目标物的步骤进一步包含以来自该多个平板x射线辐射源中的每一个的 辐射照射该目标物。

10.权利要求1的方法，其中该至少一个平板x射线辐射源包含用于提 供电子的电子源及目标，其中该电子源所提供的该电子朝着该目标加速并冲 击该目标，从而引起x射线辐射自该目标的释放。

11.权利要求10的方法，其中该目标相对于该电子源为正偏压。

12.权利要求10的方法，其中该目标接地，且该电子源相对于该目标为 负偏压。

13.一种处理系统，其用于照射目标物以降低该目标物中的污染物存在 的生物效应，该处理系统包含：

一个或多个平板x射线辐射源，每一个源具有宽度尺寸及高度尺寸；及

目标区，其具有宽度尺寸及高度尺寸，该宽度尺寸及高度尺寸与该一个 或多个平板x射线源中的每一个的宽度尺寸及高度尺寸对准且基本上相同， 或小于该一个或多个平板x射线源中的每一个的宽度尺寸及高度尺寸，从而 以来自该一个或多个平板源的辐射对该目标物进行照射用于降低该目标物 中的该污染物存在的该生物效应。

14.权利要求13的系统，其中该目标物包含能食用物质。

15.权利要求13的系统，其中该污染物为细菌、真菌或病毒，且其中该 污染物存在的该生物效应的降低包括杀灭足以实质上降低该目标物的消费 者的感染风险的数量的该污染物。

16.权利要求13的系统，其中该污染物为细菌、真菌或病毒，且其中该 污染物存在的该生物效应的降低包括杀灭足以实质上降低该目标物的腐败 的数量的该污染物。

17.权利要求13的系统，其中该污染物为化学制品，且其中该污染物存 在的该生物效应的降低包括化学改性足以实质上降低该目标物的消费者的 毒性反应的风险的数量的该污染物。

18.权利要求13的系统，其中该一个或多个平板x射线辐射源经控制以 预定剂量水平照射该目标物预定的时间。