[发明专利]用于显影光刻胶的装置以及用于操作该装置的方法有效
| 申请号： | 200680038321.4 | 申请日： | 2006-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN101505884A | 公开（公告）日： | 2009-08-12 |
| 发明（设计）人： | 约翰·M·博伊德;弗里茨·C·雷德克;戴维·J·赫姆克 | 申请（专利权）人： | 朗姆研究公司 |
| 主分类号： | B08B3/00 | 分类号： | B08B3/00 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 余 刚;尚志峰 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 第一临近端头配置为在该基片上限定光刻胶显影液的弯液面。该弯液面限定在该第一临近端头的底部和该基片之间。第二临近端头配置为在该基片上限定清洗弯液面并从该基片去除该清洗弯液面。该第二临近端头设置为相对该基片之上的该第一和第二临近端头的横向跟随该第一临近端头。将该基片暴露于光刻胶显影液的弯液面导致先前该基片上受照射的光刻胶材料被显影，以产生图案化的光刻胶层。该第一和第二临近端头能够在显影处理期间精确控制光刻胶显影液在基片上的存留时间。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 显影 光刻 装置 以及 操作 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种用于显影在基片上经曝光的光刻胶材料的装置，包括：第一临近端头，其配置为在该基片上限定光刻胶显影液的弯液面，弯液面限定在该第一临近端头的底部和该基片之间；以及第二临近端头，其配置为在该基片上限定清洗弯液面并从该基片去除该清洗弯液面，该第二临近端头设置为相对该基片之上的该第一和第二临近端头的横向跟随该第一临近端头。
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