[发明专利]用于显影光刻胶的装置以及用于操作该装置的方法

权利要求书

1.一种用于显影在基片上经曝光的光刻胶材料的装置，包括：

第一临近端头，其配置为在该基片上限定光刻胶显影液的显影弯液面，该显影弯液面限定在该第一临近端头的底部和该基片之间，其中该第一临近端头配置为在该第一临近端头和显影弯液面在该基片上方经过之后在基片上留下光刻胶显影液膜；

第二临近端头，其配置为在该基片上限定清洗弯液面并从该基片去除该清洗弯液面，该第二临近端头设置为相对该基片之上的该第一和第二临近端头的横向跟随该第一临近端头，从而将该光刻胶显影液膜从基片去除，连同将该清洗弯液面从该基片去除；以及

临近端头定位装置，限定为可调节地控制该第一临近端头和该第二临近端头之间的间隔距离，以便控制光刻胶显影液膜在该基片上的停留时间。

2.根据权利要求1所述的用于显影在基片上经曝光的光刻胶材料的装置，进一步包括：

运送装置，限定为在该第一和第二临近端头下运输该基片。

3.根据权利要求1所述的用于显影在基片上经曝光的光刻胶材料的装置，其中该第一临近端头包括光刻胶显影液传输通道和真空通道，以支持该光刻胶显影液的显影弯液面在该基片上的限定和约束。

4.根据权利要求1所述的用于显影在基片上经曝光的光刻胶材料的装置，其中该第二临近端头包括清洗流体传输通道、真空通道和干燥流体传输通道，以支持对该基片的清洗和干燥。

5.一种用于显影在基片上经曝光的光刻胶材料的系统，包括：

第一临近端头，其配置为在该基片上限定光刻胶显影液的显影弯液面，其中该第一临近端头配置为在该第一临近端头和显影弯液面在该基片上方经过之后在基片上留下光刻胶显影液膜；

第二临近端头，其限定为从该基片去除该光刻胶显影液膜并清洗和干燥该基片，该第二临近端头设置为相对该基片之上的该第一和第二临近端头的横向跟随该第一临近端头；

临近端头定位装置，其限定为可调节地控制该第一和第二临近端头之间的间隔距离，其中该第一和第二临近端头在基片上方的间隔距离和移动速度设定了该光刻胶显影液膜在该基片上的停留时间；以及

临近端头定位装置控制器，其限定为控制该第一和第二临近端头之间的间隔距离，以建立所期望的光刻胶显影液在该基片上的存留时间。

6.根据权利要求5所述的用于显影在基片上经曝光的光刻胶材料的系统，进一步包括：

基片检验装置，其配置为在该第一和第二临近端头下跟随该基片的横向移动而表征该基片的状况；以及

计算系统，限定为从该基片检验装置接收表征数据。

7.根据权利要求6所述的用于显影在基片上经曝光的光刻胶材料的系统，其中该计算系统限定为向该临近端头定位装置控制器提供关于保持该第一和第二临近端头之间的间隔距离的指令，该指令基于从该基片检验装置接收到的表征数据，该临近端头定位装置控制器限定为自动调整该临近端头定位装置，以达到如该计算系统指示的该第一和第二临近端头之间的间隔距离。

8.根据权利要求6所述的用于显影在基片上经曝光的光刻胶材料的系统，进一步包括：

光刻胶显影液传输控制器，其限定为基于从该计算系统接收到的指令，调节该光刻胶显影液到该第一临近端头的流率，从该计算系统接收到的指令基于从该基片检验装置接收到的表征数据。

9.根据权利要求6所述的用于显影在基片上经曝光的光刻胶材料的系统，进一步包括：

清洗流体传输控制器，其限定为基于从该计算系统接收到的指令调节该清洗流体到该第二临近端头的流率，从该计算系统接收到的指令基于从该基片检验装置接收到的表征数据。