[发明专利]成像系统、特别是显微光刻投影曝光设备的投影物镜有效
| 申请号： | 200680029609.5 | 申请日： | 2006-08-04 |
| 公开（公告）号： | CN101243359A | 公开（公告）日： | 2008-08-13 |
| 发明（设计）人： | K·－H·舒斯特 | 申请（专利权）人： | 卡尔蔡司SMT股份公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G02B1/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 卢江;刘春元 |
| 地址： | 德国*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及一种成像系统、特别是显微光刻的投影曝光设备的投影物镜，具有至少一个光学元件(100)，所述光学元件包含在预定工作波长情况下折射率n大于1.6的立方晶体材料，并且具有图像侧的小于折射率n的数值孔径NA，其中在所述折射率n与成像系统的数值孔径之间的差(n－NA)最大为0.2。 | ||
| 搜索关键词： | 成像 系统 特别是 显微 光刻 投影 曝光 设备 物镜 | ||
【主权项】：
1.成像系统、特别是显微光刻投影曝光设备的投影物镜，具有·至少一个光学元件(100)，所述光学元件(100)具有立方晶体材料，所述立方晶体材料在预定的工作波长的情况下具有大于1.6的折射率n；·和图像侧的数值孔径，所述数值孔径小于所述折射率n；·其中在所述折射率n与所述成像系统的数值孔径NA之间的差(n-NA)最大为0.2。
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