[发明专利]成像系统、特别是显微光刻投影曝光设备的投影物镜

权利要求书

1.成像系统、特别是显微光刻投影曝光设备的投影物镜，具有

·至少一个光学元件(100)，所述光学元件(100)具有立方晶体材料，所述立方晶体材料在预定的工作波长的情况下具有大于1.6的折射率n；

·和图像侧的数值孔径，所述数值孔径小于所述折射率n；

·其中在所述折射率n与所述成像系统的数值孔径NA之间的差(n-NA)最大为0.2。

2.成像系统、特别是显微光刻投影曝光设备的投影物镜，具有

·至少一个光学元件(100)，所述光学元件(100)具有立方晶体材料，所述立方晶体材料在预定的工作波长的情况下具有折射率n；

·和图像侧的至少为1.50的数值孔径；

·其中在所述折射率n与所述成像系统的数值孔径NA之间的差(n-NA)最大为0.2。

3.成像系统、特别是显微光刻投影曝光设备的投影物镜，具有

·至少一个光学元件(100)，所述光学元件(100)具有立方晶体材料，所述立方晶体材料在预定的工作波长的情况下具有折射率n并且具有平的光出射面；

·和图像侧的数值孔径，所述数值孔径小于所述折射率n；

·其中在所述折射率n与所述成像系统的数值孔径NA之间的差(n-NA)最大为0.2。

4.按照权利要求1至3之一的成像系统，其特征在于，

在所述折射率n与所述数值孔径NA之间的差(n-NA)位于0.05至0.20的范围内，优选地位于0.05至0.15的范围内，并且特别优选地位于0.05至0.10的范围内。

5.按照上述权利要求之一所述的成像系统，其特征在于，

所述立方晶体材料具有氧化物。

6.按照权利要求5所述的成像系统，其特征在于，

所述立方晶体材料具有蓝宝石(Al₂O₃)和氧化钾或氧化钙。

7.按照上述权利要求之一所述的成像系统，其特征在于，

所述立方晶体材料具有从以下组中选出的至少一种材料，所述组包含7Al₂O₃·12CaO、Al₂O₃·K₂O、Al₂O₃·3CaO、Al₂O₃·SiO₂KO、Al₂O₃·SiO₂·2K和Al₂O₃·3CaO6H₂O。

8.按照上述权利要求之一所述的成像系统，其特征在于，

所述立方晶体材料具有钙、钠和氧化硅。

9.按照上述权利要求之一所述的成像系统，其特征在于，

所述立方晶体材料具有从包含CaNa₂SiO₄和CaNa₄Si₃O₉的组中选出的至少一种材料。

10.按照上述权利要求之一所述的成像系统，其特征在于，

所述立方晶体材料具有从包含Sr(NO₃)₂、MgONa₂O·SiO₂和Ca(NO₃)₂的组中选出的至少一种材料。

11.按照上述权利要求之一的成像系统，其特征在于，

所述光学元件(100)是所述成像系统的图像侧的最后的折射透镜。

12.按照上述权利要求之一所述的成像系统，其特征在于，

所述光学元件(100)由带有折射力的第一分元件(10)和基本上无折射力的第二分元件(20)组成。

13.按照权利要求12所述的成像系统，其特征在于，

所述第一分元件(10)是基本上平凸的透镜。

14.按照权利要求12或13所述的成像系统，其特征在于，

所述第二分元件(20)是平面平行板。