[发明专利]阴离子和阳离子两性共聚物的用途有效
| 申请号： | 200680026793.8 | 申请日： | 2006-07-21 |
| 公开（公告）号： | CN101227887A | 公开（公告）日： | 2008-07-23 |
| 发明（设计）人： | S·恩古延－金;M·劳本德尔;P·赫斯塞尔 | 申请（专利权）人： | 巴斯福股份公司 |
| 主分类号： | A61K8/81 | 分类号： | A61K8/81;C08F220/04;C08F220/34;C08F226/00 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 刘金辉;李小梅 |
| 地址： | 德国路*** | 国省代码： | 德国;DE |
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| 摘要： | 本发明涉及阴离子或阳离子两性共聚物作为发用化妆组合物的流变改性剂的用途，所述两性共聚物可通过将a1)至少一种每分子具有可自由基聚合的α，β－烯属不饱和双键和至少一个阴离子生成性基团和/或阴离子基团的化合物，a2)至少一种每分子具有可自由基聚合的α，β－烯属不饱和双键和至少一个阳离子生成性基团和/或阳离子基团的化合物，b)至少一种每分子具有至少两个α，β－烯属不饱和双键的可自由基聚合的交联化合物，c)如果合适的话，在至少一种含有聚醚基团和/或可自由基聚合的烯属不饱和双键的聚硅氧烷化合物存在下自由基共聚而获得。 | ||
| 搜索关键词： | 阴离子 阳离子 两性 共聚物 用途 | ||
【主权项】：
1.相比于阳离子生成性基团/阳离子基团具有摩尔过量的阴离子生成性基团/阴离子基团或者相比于阴离子生成性基团/阴离子基团具有摩尔过量的阳离子生成性基团/阳离子基团的两性共聚物作为发用化妆品组合物的流变改性剂的用途，所述两性共聚物可通过将a1)至少一种每分子具有可自由基聚合的α，β-烯属不饱和双键和至少一个阴离子生成性基团和/或阴离子基团的化合物，a2)至少一种每分子具有可自由基聚合的α，β-烯属不饱和双键和至少一个阳离子生成性基团和/或阳离子基团的化合物，b)至少一种每分子具有至少两个α，β-烯属不饱和双键的可自由基聚合的交联化合物，c)如果合适的话，在至少一种含有聚醚基团和/或可自由基聚合的烯属不饱和双键的聚硅氧烷化合物存在下自由基共聚而获得。
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