[发明专利]阴离子和阳离子两性共聚物的用途有效

专利信息
申请号: 200680026793.8 申请日: 2006-07-21
公开(公告)号: CN101227887A 公开(公告)日: 2008-07-23
发明(设计)人: S·恩古延-金;M·劳本德尔;P·赫斯塞尔 申请(专利权)人: 巴斯福股份公司
主分类号: A61K8/81 分类号: A61K8/81;C08F220/04;C08F220/34;C08F226/00
代理公司: 北京市中咨律师事务所 代理人: 刘金辉;李小梅
地址: 德国路*** 国省代码: 德国;DE
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摘要:
搜索关键词: 阴离子 阳离子 两性 共聚物 用途
【权利要求书】:

1.相比于阳离子生成性基团/阳离子基团具有摩尔过量的阴离子生成性基团/阴离子基团或者相比于阴离子生成性基团/阴离子基团具有摩尔过量的阳离子生成性基团/阳离子基团的两性共聚物作为发用化妆品组合物的流变改性剂的用途,所述两性共聚物可通过将

a1)至少一种每分子具有可自由基聚合的α,β-烯属不饱和双键和至少一个阴离子生成性基团和/或阴离子基团的化合物,

a2)至少一种每分子具有可自由基聚合的α,β-烯属不饱和双键和至少一个阳离子生成性基团和/或阳离子基团的化合物,

b)至少一种每分子具有至少两个α,β-烯属不饱和双键的可自由基聚合的交联化合物,

c)如果合适的话,在至少一种含有聚醚基团和/或可自由基聚合的烯属不饱和双键的聚硅氧烷化合物存在下自由基共聚而获得。

2.根据权利要求1的用途,其中两性共聚物可通过根据沉淀聚合方法的自由基共聚而获得。

3.根据权利要求1或2的用途,其中化合物a1)和a2)中的至少一些以单体对的形式使用,其中组分a1)的阴离子生成性基团与组分a2)的阳离子生成性基团的摩尔比为约1∶1。

4.根据权利要求3的用途,其中单体对中用于聚合的化合物的分数为至少1重量%,优选至少2重量%,尤其是至少3重量%。

5.根据权利要求3或4的用途,其中不足额使用的组分a1)或a2)完全作为单体对的组分使用。

6.根据在前权利要求之一的用途,其中两性共聚物相比于阳离子生成性基团/阳离子基团具有至少1.2∶1、优选至少1.4∶1、特别优选至少2∶1、特别是至少2.5∶1摩尔过量的阴离子生成性基团/阴离子基团,或者相比于阴离子生成性基团/阴离子基团具有至少1.2∶1、优选至少1.4∶1、特别优选至少2∶1、特别是至少2.5∶1摩尔过量的阳离子生成性基团/阳离子基团。

7.根据在前权利要求之一的用途,其中组分a1)选自丙烯酸、甲基丙烯酸和包含丙烯酸和/或甲基丙烯酸的混合物。

8.根据权利要求1-7之一的用途,其中组分a2)选自N-乙烯基咪唑化合物和包含至少一种N-乙烯基咪唑化合物的混合物。

9.根据权利要求1-7之一的用途,其中组分a2)选自N-[3-(二甲基氨基)丙基]丙烯酰胺、N-[3-(二甲基氨基)丙基]甲基丙烯酰胺、丙烯酸N,N-二甲基氨基乙酯、甲基丙烯酸N,N-二甲基氨基乙酯及其混合物。

10.根据权利要求1-7之一的用途,其中组分a2)是至少一种N-乙烯基咪唑化合物,其中对于共聚,具有离子生成性基团或离子基团的单体的用量应使得,共聚物A)相比于阳离子生成性基团/阳离子基团具有超过2∶1、优选至少2.5∶1摩尔过量的阴离子生成性基团/阴离子基团,或者相比于阴离子生成性基团/阴离子基团具有超过2∶1、优选至少2.5∶1摩尔过量的阳离子生成性基团/阳离子基团。

11.根据权利要求1-8和10之一的用途,其中组分a1)包含丙烯酸和/或甲基丙烯酸或由丙烯酸和/或甲基丙烯酸组成,并且组分a2)包含至少一种N-乙烯基咪唑化合物或由至少一种N-乙烯基咪唑化合物组成。

12.根据权利要求1-11之一的用途,其中两性共聚物的阳离子生成性基团在共聚之后已经用甲基氯或硫酸二甲酯季铵化。

13.根据权利要求1-11之一的用途,其中两性共聚物的阳离子生成性基团未被季铵化,该两性共聚物包含呈共聚形式的至少一种N-乙烯基咪唑化合物作为阳离子生成性化合物并且具有的阳离子生成性基团/阳离子基团对阴离子生成性基团/阴离子基团的摩尔比至多为6∶1,或者该两性共聚物包含呈共聚形式的N-[3-(二甲基氨基)丙基]丙烯酰胺和/或N-[3-(二甲基氨基)丙基]甲基丙烯酰胺作为阳离子生成性化合物并且具有的阳离子生成性基团/阳离子基团对阴离子生成性基团/阴离子基团的摩尔比至多为10∶1。

14.根据在前权利要求之一的用途,其中两性共聚物的阴离子生成性基团在共聚之后已经用碱、优选三烷醇胺、特别是三乙醇胺部分中和。

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