[发明专利]光盘及Cu合金记录层用溅射靶有效
| 申请号： | 200680024498.9 | 申请日： | 2006-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN101218106A | 公开（公告）日： | 2008-07-09 |
| 发明（设计）人： | 佐藤贤次 | 申请（专利权）人： | 日矿金属株式会社 |
| 主分类号： | B41M5/26 | 分类号： | B41M5/26;C23C14/34;G11B7/243;G11B7/254;G11B7/257;G11B7/26 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王海川;樊卫民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种具有Cu合金记录层的光盘，其具有记录层由ZnS－SiO2保护层夹持的结构，其中该记录层以总量计含有1至20原子％选自Zn、Mn、Ga、Ti和Ta中的一种以上成分，余量为Cu及不可避免的杂质。本发明涉及光盘及Cu合金记录层用溅射靶，提供特别在使用ZnS－SiO2作为保护层的情况下，可以防止或者抑制S从保护层扩散而造成的Cu记录层的硫化，可以得到不产生记录比特误差的光记录介质的光盘及Cu合金记录层用溅射靶。 | ||
| 搜索关键词： | 光盘 cu 合金 记录 溅射 | ||
【主权项】：
1.一种具有Cu合金记录层的光盘，其具有记录层与含有ZnS的保护层邻接的结构，其中，该记录层以总量计含有1至20原子％选自Zn、Mn、Ga、Ti和Ta中的一种以上成分，余量为Cu及不可避免的杂质。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日矿金属株式会社，未经日矿金属株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200680024498.9/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：干衣机的直插式过滤装置
- 下一篇：一种移动数字广播网络的计费方法
