[发明专利]光盘及Cu合金记录层用溅射靶有效
| 申请号： | 200680024498.9 | 申请日： | 2006-04-07 |
| 公开（公告）号： | CN101218106A | 公开（公告）日： | 2008-07-09 |
| 发明（设计）人： | 佐藤贤次 | 申请（专利权）人： | 日矿金属株式会社 |
| 主分类号： | B41M5/26 | 分类号： | B41M5/26;C23C14/34;G11B7/243;G11B7/254;G11B7/257;G11B7/26 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 王海川;樊卫民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光盘 cu 合金 记录 溅射 | ||
【权利要求书】：
1.一种具有Cu合金记录层的光盘，其具有记录层与含有ZnS的保护层邻接的结构，其中，该记录层以总量计含有1至20原子％选自Zn、Mn、Ga、Ti和Ta中的一种以上成分，余量为Cu及不可避免的杂质。
2.权利要求1所述的具有Cu合金记录层的光盘，其中，Cu合金记录层中存在的由Mg、Na、Ca、Ba、Ce、Li或Zr构成的杂质各自为0.1原子％以下。
3.一种Cu合金记录层用溅射靶，其中，以总量计含有1至20原子％选自Zn、Mn、Ga、Ti和Ta中的一种以上成分，余量为Cu及不可避免的杂质。
4.权利要求3所述的Cu合金记录层用溅射靶，其中，Cu合金中存在的由Mg、Na、Ca、Ba、Ce、Li或Zr构成的杂质各自为0.1原子％以下。
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