[发明专利]包括磁共振成像装置的粒子辐射治疗设备无效
| 申请号： | 200680022106.5 | 申请日： | 2006-06-16 |
| 公开（公告）号： | CN101203268A | 公开（公告）日： | 2008-06-18 |
| 发明（设计）人： | M·J·M·克勒伊普;P·比斯利 | 申请（专利权）人： | 西门子磁体技术有限公司 |
| 主分类号： | A61N5/10 | 分类号： | A61N5/10;G01R33/38 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 卢江;刘春元 |
| 地址： | 英国*** | 国省代码： | 英国;GB |
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| 摘要： | 被布置用于将带电粒子射束沿预定方向施加于成像体积内的施加区域的粒子辐射治疗设备包括被布置用于沿预定方向引导带电粒子射束的带电粒子射束源，进一步包括用于在施加带电粒子射束的同时在施加区域中生成磁场的磁场生成装置，其中磁场生成装置被布置用于提供对带电粒子射束的施加区域的接近并且在带电粒子射束的施加区域中提供均匀磁场，所述磁场基本上沿预定方向定向。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 磁共振 成像 装置 粒子 辐射 治疗 设备 | ||
【主权项】：
1.粒子辐射治疗设备，被布置用于将带电粒子射束沿预定方向施加于施加区域，该粒子辐射治疗设备包括被布置用于沿预定方向引导带电粒子射束的带电粒子射束源，进一步包括用于在施加带电粒子射束的同时在包括施加区域的成像体积中生成磁场的磁场生成装置，其中磁场生成装置被布置用于提供对带电粒子射束的施加区域的接近并且在带电粒子射束的施加区域中提供均匀磁场，所述磁场基本上沿预定方向定向。
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