[发明专利]包括磁共振成像装置的粒子辐射治疗设备

权利要求书

1.粒子辐射治疗设备，被布置用于将带电粒子射束沿预定方向施加于施加区域，该粒子辐射治疗设备包括被布置用于沿预定方向引导带电粒子射束的带电粒子射束源，进一步包括用于在施加带电粒子射束的同时在包括施加区域的成像体积中生成磁场的磁场生成装置，其中磁场生成装置被布置用于提供对带电粒子射束的施加区域的接近并且在带电粒子射束的施加区域中提供均匀磁场，所述磁场基本上沿预定方向定向。

2.根据权利要求1所述的粒子辐射治疗设备，其中磁场生成装置包括磁线圈，每个磁线圈包括导电材料的绕组；其中磁线圈关于中平面(XY)和反射平面(YZ)对称布置，反射平面垂直于中平面，使得线圈具有相对于垂直于中平面和反射平面的另一平面(XZ)的对称平面，

每个线圈绕垂直于中平面的轴缠绕，并且其中绕组被配置成在操作中电流关于反射平面对称并且关于中平面反对称，从而在磁场生成装置的中心产生合成场，该合成场垂直于反射平面，并且基本上沿预定方向定向。

3.根据权利要求2所述的粒子辐射治疗设备，其中磁线圈被布置成四个线圈组的群组，并且磁线圈组如权利要求2中所述对称布置。

4.根据权利要求2或3所述的粒子辐射治疗设备，其中磁线圈包括D线圈。

5.根据权利要求2或3所述的粒子辐射治疗设备，其中磁线圈包括香蕉线圈。

6.根据权利要求1-5中任一项所述的粒子辐射治疗设备，其中磁线圈包括子线圈。

7.根据权利要求6所述的粒子辐射治疗设备，其中子线圈以嵌套和/或重叠的布置被提供。

8.根据权利要求1-7中任一项所述的粒子辐射治疗设备，其中线圈是非平面的。

9.根据任一前述权利要求所述的粒子辐射治疗设备，其中磁场生成装置适合用于磁共振成像系统中。

10.根据任一前述权利要求所述的粒子辐射治疗设备，进一步包括低温恒温器单元和梯度磁体组件，其中所述磁场生成装置位于低温恒温器内以提供能够实现超导性的工作温度，并且其中梯度磁体组件可操作用于提供横越预定平面的磁场，由此允许磁共振成像。

11.一种用于同时在成像体积中执行磁共振成像并且将带电粒子射束施加于成像体积内的施加区域的方法，包括将带电粒子射束沿预定方向施加于成像体积内的施加区域的步骤，并且进一步包括在带电粒子射束的施加区域中施加均匀磁场，所述磁场基本上沿预定方向定向。

12.根据权利要求11所述的方法，其中均匀磁场由磁线圈生成，每个磁线圈包括导电材料的绕组；其中磁线圈关于中平面(XY)和反射平面(YZ)对称布置，反射平面垂直于中平面，使得线圈具有相对于垂直于中平面和反射平面的另一平面(XZ)的对称平面，每个线圈绕垂直于中平面的轴缠绕，并且其中绕组被配置成在操作中电流关于反射平面对称并且关于中平面反对称，从而在系统的中心产生合成场，该合成场垂直于反射平面。

13.根据权利要求12所述的方法，其中磁线圈被布置成四个线圈组的群组，并且磁线圈组如权利要求12中所述对称布置。

14.根据权利要求12或13所述的方法，进一步包括以下步骤：将磁线圈冷却到能够实现超导性的温度，并且使电流在磁线圈中流动，使得电流方向关于反射平面对称并且关于中平面反对称。