[发明专利]3-氨基-4-取代吡唑衍生物的合成无效

专利信息
申请号: 200680020175.2 申请日: 2006-06-07
公开(公告)号: CN101193865A 公开(公告)日: 2008-06-04
发明(设计)人: J·孔;T·孟;X·梁;J·K·王;P·麦克纳马拉 申请(专利权)人: 先灵公司
主分类号: C07D231/38 分类号: C07D231/38
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 关立新;梁谋
地址: 美国新*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 本申请公开了一种新的合成3-氨基-4-取代吡唑衍生物的方法,所述3-氨基-4-取代吡唑衍生物例如可以用作中间体以制备具有药效的化合物。
搜索关键词: 氨基 取代 吡唑 衍生物 合成
【主权项】:
1.一种制备下式3-氨基-4-取代吡唑衍生物的方法:其中:R2选自包括以下基团的组:R9、烷基、烯基、炔基、CF3、杂环基、杂环基烷基、卤素、卤代烷基、芳基、芳烷基、杂芳基烷基、炔基烷基、环烷基、杂芳基;被1-6个R9基团取代的烷基,其中1-6个R9可以是相同的或不同的且独立地选自下面列出的R9基团;被1-3个芳基或杂芳基取代的芳基,其中所述1-3个芳基或杂芳基可以是相同的或不同的且独立地选自苯基、吡啶基、苯硫基、呋喃基和噻唑基;与一个芳基或杂芳基稠合的芳基;被1-3个芳基或杂芳基取代的杂芳基,其中所述1-3个芳基或杂芳基可以是相同的或不同的且独立地选自苯基、吡啶基、苯硫基、呋喃基和噻唑基;与一个芳基或杂芳基稠合的杂芳基、其中,上述的R2定义中的一个或多个芳基和/或一个或多个杂芳基可以是未取代的或者任选被一个或多个相同的或不同的部分取代,各个部分独立地选自包括卤素、-CN、-OR5、-SR5、-S(O2)R6、-S(O2)NR5R6、-NR5R6、-C(O)NR5R6、CF3、烷基、芳基和OCF3的组;R4是H、卤素或烷基;R5是H、烷基、芳基或环烷基;R6选自包括H、烷基、烯基、芳基、芳烷基、芳烯基、环烷基、杂环基、杂环基烷基、杂芳基和杂芳基烷基的组,其中每个所述烷基、芳基、芳烷基、环烷基、杂环基、杂环基烷基、杂芳基和杂芳基烷基皆可以是未取代的或任选被一个或多个相同或不同的部分取代,各个部分独立地选自包括卤素、烷基、芳基、环烷基、杂环基烷基、CF3、OCF3、CN、-OR5、-NR5R10、-C(R4R5)p-R9、-N(R5)Boc、-(CR4R5)pOR5、-C(O2)R5、-C(O)R5、-C(O)NR5R10、-SO3H、-SR10、-S(O2)R7、-S(O2)NR5R10、-N(R5)S(O2)R7、-N(R5)C(O)R7和-N(R5)C(O)NR5R10的组;R7选自包括烷基、环烷基、芳基、芳基烯基、杂芳基、芳烷基、杂芳基烷基、杂芳基烯基和杂环基的组,其中各个所述烷基、环烷基、杂芳基烷基、芳基、杂芳基和芳烷基可以是未取代的或任选独立地被一个或多个相同的或不同的部分取代,每个所述部分独立地选自包括卤素、烷基、芳基、环烷基、CF3、OCF3、CN、-OR5、-NR5R10、-CH2OR5、-C(O2)R5、-C(O)NR5R10、-C(O)R5、-SR10、-S(O2)R10、-S(O2)NR5R10、-N(R5)S(O2)R10、-N(R5)C(O)R10和-N(R5)C(O)NR5R10的组;R8选自包括R6、-OR6、-C(O)NR5R10、-S(O2)NR5R10、-C(O)R7、-C(=N-CN)-NH2、-C(=NH)-NHR5、杂环基和-S(O2)R7的组;R9选自包括卤素、-CN、-NR5R10、-C(O2)R6、-C(O)NR5R10、-OR6、-SR6、-S(O2)R7、-S(O2)NR5R10、-N(R5)S(O2)R7、-N(R5)C(O)R7和-N(R5)C(O)NR5R10的组;R10选自包括H、烷基、芳基、芳烷基、环烷基、杂环基、杂环基烷基、杂芳基和杂芳基烷基的组,其中每个所述烷基、芳基、芳烷基、环烷基、杂环基、杂环基烷基、杂芳基和杂芳基烷基皆可以是未取代的或者任选被一个或多个相同的或不同的部分取代的,其中各个部分独立地选自包括卤素、烷基、芳基、环烷基、杂环基烷基、CF3、OCF3、CN、-OR5、-NR4R5、-C(R4R5)p-R9、-N(R5)Boc、-(CR4R5)pOR5、-C(O2)R5、-C(O)NR4R5、-C(O)R5、-SO2H、-SR5、-S(O2)R7、-S(O2)NR4R5、-N(R5)S(O2)R7、-N(R5)C(O)R7和-N(R5)C(O)NR4R5的组;或者任选(i)在-NR5R10部分中的R5和R10,或者(ii)在-NR5R6部分中的R5和R6,它们可以连接在一起形成一个环烷基或者杂环基部分,各个所述环烷基或杂环烷基可以是未取代的或者任选独立地被一个或多个R9基团取代;以及m是0至4;其包括:(a)式II化合物与式III化合物的反应其中R’是烷基、取代烷基、烯基、取代烯基、炔基、取代炔基、芳基、取代芳基、杂芳基、取代杂芳基、芳烷基、取代芳烷基、烷基芳基、取代烷基芳基、环烷基、取代环烷基、杂环基或取代的杂环基,该反应在LDA、LiHMDS、KHMDS或NaHMDS以及一种溶剂存在下,在大约-100℃至大约0℃温度下进行,得到式IV化合物和(b)式IV化合物与肼和乙酸在醇溶剂中、在大约50℃至大约150℃温度下反应,得到式I化合物。
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