[发明专利]限制电源电流的方法和光学设备无效
| 申请号： | 200680010380.0 | 申请日： | 2006-03-16 |
| 公开（公告）号： | CN101151670A | 公开（公告）日： | 2008-03-26 |
| 发明（设计）人： | H·A·J·卢伊曼斯;C·A·赫泽曼斯 | 申请（专利权）人： | 皇家飞利浦电子股份有限公司 |
| 主分类号： | G11B19/28 | 分类号： | G11B19/28 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 李静岚;刘红 |
| 地址： | 荷兰艾*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种限制系统中的电源电流的方法，所述系统包括电源(10)、以不同速度操作的电动机(12)、用于驱动所述电动机的驱动器(14)和用于控制所述驱动器的控制器(16)，所述方法包括步骤：指定与最大电源电流(IPSmax)相关的第一值；确定与电动机的依赖于电磁力的电压(VEMF)相关的第二值；确定与期望的电动机电流(IMdes)相关的期望第三值(cdes)；考虑所述第一值和第二值确定所述第三值的第一边界值(a)和第二边界值(b)；将所述边界值(a)和(b)与所述第三值(cdes)进行比较；和根据所述比较步骤的结果设置所述第三值。 | ||
| 搜索关键词： | 限制 电源 电流 方法 光学 设备 | ||
【主权项】：
1.一种限制系统中的电源电流的方法，所述系统包括电源(10)、以不同速度操作的电动机(12)、用于驱动所述电动机的驱动器(14)和用于控制所述驱动器的控制器(16)，所述方法包括步骤：指定与最大电源电流(IPSmax)相关的第一值；确定与电动机的依赖于电磁力的电压(VEMF)相关的第二值；确定与期望的电动机电流(IMdes)相关的期望第三值(cdes)；考虑所述第一值和第二值确定所述第三值的第一边界值(a)和第二边界值(b)；将所述边界值(a)和(b)与所述第三值(cdes)进行比较；和根据所述比较步骤的结果设置所述第三值。
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