[发明专利]具有多个抗反射涂层的光致抗蚀剂的成像方法无效
| 申请号： | 200680008827.0 | 申请日： | 2006-02-09 |
| 公开（公告）号： | CN101142533A | 公开（公告）日： | 2008-03-12 |
| 发明（设计）人： | D·J·阿卜杜拉;M·O·奈塞尔;R·R·达梅尔;G·帕夫洛夫斯基;J·比亚福尔;A·R·罗马诺;金羽圭 | 申请（专利权）人： | AZ电子材料美国公司 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王健 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 光致抗蚀剂的成像方法，包括以下步骤：a)在基材上形成多个有机抗反射涂层的堆叠体；b)在该多个有机抗反射涂层的堆叠体的顶层上形成光致抗蚀剂的涂层；c)用曝光设备将该光致抗蚀剂成像曝光；和d)用显影剂将该涂层显影。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 多个抗 反射 涂层 光致抗蚀剂 成像 方法 | ||
【主权项】：
1.光致抗蚀剂的成像方法，包括以下步骤：a)在基材上形成多个有机抗反射涂层的堆叠体；b)在该多个有机抗反射涂层的堆叠体的顶层上形成光致抗蚀剂的涂层；c)用曝光设备将该光致抗蚀剂成像曝光；和d)用显影剂将该涂层显影。
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