[发明专利]在水处理过程中监测处理剂的残留物和控制处理剂的剂量的方法有效
| 申请号： | 200680002693.1 | 申请日： | 2006-01-20 |
| 公开（公告）号： | CN101568822A | 公开（公告）日： | 2009-10-28 |
| 发明（设计）人： | 高彼·纳特·塞思麦迪海范;布赖恩·S·约翰逊 | 申请（专利权）人： | 纳尔科公司 |
| 主分类号： | G01N21/64 | 分类号： | G01N21/64 |
| 代理公司： | 北京安信方达知识产权代理有限公司 | 代理人： | 陶贻丰;郑 霞 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种监测处理水中残留处理剂的方法，其中将添加至少两种不同剂量的、用荧光示踪剂来标记或示踪的处理剂时水的荧光强度与处理剂的残留浓度相互关联。在不同的处理剂剂量时的荧光响应用于自动连续地确定最佳处理剂剂量，并且由此控制处理剂剂量。 | ||
| 搜索关键词： | 水处理 过程 监测 处理 残留物 控制 剂量 方法 | ||
【主权项】：
1.一种在使用处理剂处理的处理水中监测残留处理剂和确定最佳处理剂剂量的方法，依次包括：i)向处理水添加第一剂量的、用荧光示踪剂来示踪或标记的处理剂；ii)测量所述处理水的荧光强度；iii)向所述处理水添加第二剂量的、用荧光示踪剂来示踪或标记的所述处理剂；iv)测量所述处理水的荧光强度；以及v-a)将添加所述处理剂第一剂量和第二剂量的所述处理水的所测荧光强度的变化与所述处理剂的残留浓度相互关联；或v-b)将添加所述处理剂第一剂量和第二剂量的所述处理水的所测荧光强度的变化与所测荧光强度的不成比例变化相互关联，其中所述处理水的所测荧光强度的不成比例变化用于确定与最佳处理剂剂量相对应的设置点。
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