[发明专利]在水处理过程中监测处理剂的残留物和控制处理剂的剂量的方法

权利要求书

1.一种在使用处理剂处理的处理水中监测残留处理剂和确定最佳处理剂 剂量的方法，依次包括：

i)向处理水添加第一剂量的、用荧光示踪剂来示踪的处理剂；

ii)测量所述处理水的荧光强度；

iii)向所述处理水添加第二剂量的、用荧光示踪剂来示踪的处理剂；

iv)测量所述处理水的荧光强度；以及

v)将添加所述处理剂第一剂量和第二剂量的所述处理水的所测荧光强度 的变化与所测荧光强度的不成比例变化相互关联，其中所述处理水的所测荧光 强度的不成比例变化用于确定与最佳处理剂剂量相对应的设置点，其中将所述 处理剂的残留浓度与添加处理剂各剂量时所述处理水的所测荧光强度的变化 根据下述度量相互关联：(x₁/F₂-x₂/F₁)/(1/F₂-1/F₁)，其中x₁是所述处理剂的 第一剂量，x₂是所述处理剂的第二剂量，F₁是在步骤ii)中所测的荧光强度， F₂是在步骤iv)中所测的荧光强度。

2.一种在使用处理剂处理的处理水中监测残留处理剂和确定最佳处理剂 剂量的方法，依次包括：

i)向处理水添加第一剂量的、用荧光示踪剂来示踪的处理剂；

ii)测量所述处理水的荧光强度；

iii)向所述处理水添加第二剂量的、用荧光示踪剂来示踪的处理剂；

iv)测量所述处理水的荧光强度；以及

v)将添加所述处理剂第一剂量和第二剂量的所述处理水的所测荧光强度 的变化与所测荧光强度的不成比例变化相互关联，其中所述处理水的所测荧光 强度的不成比例变化用于确定与最佳处理剂剂量相对应的设置点，其中将所述 处理剂的残留浓度与添加处理剂各剂量时所述处理水的所测荧光强度的变化 根据下述度量相互关联：(x₁F₂-x₂F₁)/(F₂-F₁)，其中x₁是所述处理剂的第一剂 量，x₂是所述处理剂的第二剂量，F₁是在步骤ii)中所测的荧光强度，F₂是在步 骤iv)中所测的荧光强度。

3.如权利要求1的方法，其中将所述处理剂的残留浓度与处理剂剂量相互 关联。

4.如权利要求1的方法，其中所述处理剂的残留浓度用于确定处理剂剂量 的上限值。

5.如权利要求4的方法，其中所述处理剂剂量自动保持在所述上限值以下。

6.如权利要求1的方法，其中所述设置点自动改变以说明所述处理水的质 量变动。

7.如权利要求2的方法，其中所述处理剂剂量自动保持在所述设置点处。

8.如权利要求1的方法，其中所述处理剂用荧光示踪剂来追踪。

9.如权利要求1的方法，其中水处理过程是固液分离过程。

10.如权利要求9的方法，其中所述固液分离过程包括用一种或多种凝结 剂或絮凝剂或其组合物来处理水，以形成水和凝结固体及絮凝固体的混合物， 以及所述凝结固体及絮凝固体与水的分离。

11.如权利要求10的方法，其中所述固液分离过程是一种膜分离过程，其 中借助于经膜的过滤以使得所述凝结固体及絮凝固体和水相分离。

12.如权利要求11的方法，其中所述膜分离过程是一种反渗透预处理步骤， 其中使用一种或多种助滤剂来处理水以形成凝结固体及絮凝固体的混合物，至 少一部分所述凝结、絮凝固体在通过反渗透膜过滤所述水之前从水中除去。

13.如权利要求11的方法，其中借助于经媒介过滤器的过滤，部分所述凝 结固体及絮凝固体从水中除去。