[发明专利]曝光装置、曝光装置的制造方法以及微元件的制造方法有效
| 申请号： | 200680001152.7 | 申请日： | 2006-03-28 |
| 公开（公告）号： | CN101052923A | 公开（公告）日： | 2007-10-10 |
| 发明（设计）人： | 川村秀司 | 申请（专利权）人： | 株式会社尼康 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人： | 左一平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种曝光装置，透过投影光学系统(PL)把掩模(M)上所形成的图案曝光至感光性基板(P)，具备：搭载着支撑掩模(M)的掩模载台(MST)及投影光学系统(PL)的至少的一方的上架台部(26)、以及支撑着上架台部(26)，并在所定方向上具有长方向的多个下架台部(6a)。 | ||
| 搜索关键词： | 曝光 装置 制造 方法 以及 元件 | ||
【主权项】：
1.一种曝光装置，应用于透过投影光学系统把掩模上所形成的图案曝光至感光性基板上，其特征在于，所述曝光装置包括：上架台部，搭载着支撑所述掩模的掩模载台及所述投影光学系统的至少的一方；以及多个下架台部，设成可自所述上架台部分离，并在所定方向上具有长方向，且支撑着所述上架台部。
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