[发明专利]曝光装置、曝光装置的制造方法以及微元件的制造方法

说明书

技术领域

本发明是有关于一种用于以微影工序制造液晶显示元件等的平板显示元件等的微元件的曝光装置、该曝光装置的制造方法及采用该曝光装置的微元件的制造方法。

背景技术

现在，关于液晶显示元件等的制造，是采用微影的方法把掩模上所形成的微细图案转写到感光性基板。在采用此微影方法的制造工序中，当掩模被载置于二维移动的掩模载台上时，采用的是投影曝光装置，把此掩模上所形成的图案透过投影光学系统，投影曝光到载置于二维移动的基板载台的感光性基板上。且感光性基板，例如是在玻璃板等的表面涂有感光剂的东西。现有的曝光装置，如图7所示，是借由把搭载掩模载台104及投影光学系统(未图示)的架台部(支柱，column)106装载到搭载基板载台100的架台部(定盘)102上组装而成。

近年来，曝光装置，伴随着平板显示元件使用，例如液晶显示用的基板的大型化、掩模及基板(连带地掩模载台及基板载台)的大型化、掩模载台及基板载台的冲程的加长化的发展，支撑此些掩模载台及基板载台的架台部也要大型化。然而，因为搬运具备此些架台部的曝光装置时，受限于道路宽度等的情况，其大小也受到限制。

发明内容

在此，本发明的课题是，提供一种曝光装置、采用该曝光装置的制造方法及采用该曝光装置的微元件的制造方法，此曝光装置具有搭载着曝光本体部的至少一部份(例如，掩模载台和投影光学系统中至少一方)及基板载台等。

依照本发明的第1形态，提供一种曝光装置，透过投影光学系统把掩模上所形成的图案曝光至感光性基板，包括：上架台部，搭载着支撑掩模的掩模载台及投影光学系统的至少之一方；以及多个下架台部，设成可自上架台部分离，并在所定方向上具有长方向，且支撑着上架台部。

依照本发明的第1形态，因为具备了多个下架台部，其设成可从上架台部分离，且在所定方向上具有长方向，所以可提供的曝光装置为能够以车辆(甚至是飞机)来承载、搬运，且具备了能载置大型基板的大型基板载台。

依照本发明的第2形态，提供一种曝光装置，透过投影光学系统把图案曝光至感光性基板上，包括：第1架台部(上架台部)，设有包含着投影光学系统的曝光本体部的至少一部份；以及第2架台部，利用一对支撑部(中架台部)支撑第1架台部，此对支撑部是设成可自第1架台部分离，分别以第1方向为长方向而延长，且此对支撑部是夹投影光学系统并在与第1方向交叉的第2方向分离而配置。

依照本发明的第2形态，因为具备了设有曝光本体部的至少一部份第1架台部、以及利用一对支撑部支撑第1架台部的第2架台部，此对支撑部是设成可自第1架台部分离，分别以第1方向为长方向而延长，且夹投影光学系统并在与第1方向交叉的第2方向分离地配置，所以，借由彼此分离，可以车辆(甚至是飞机)承载、搬运。

依照本发明的第3形态，提供一种曝光装置的制造方法，透过投影光学系统，把图案曝光至感光性基板上，包括：下架台部设置工序，设置下架台部，此下架台部搭载着支撑感光性基板的基板载台；中架台部设置工序，把多个中架台部设置在下架台部设置工序所设置的下架台部上；以及上架台部设置工序，把上架台部设置在中架台部设置工序所设置的中架台部上，上架台部搭载着含有投影光学系统的曝光本体部的至少一部份。

依照本发明的第3形态，因为下架台部上设置了多个中架台部，在多个中架台部上设置搭载着含有投影光学系统的曝光本体部的至少一部份的上架台部，所以，可制造出的曝光装置为采用能够运搬的大小的多个架台部，且可对大型的感光性基板进行曝光。

依照本发明的第4形态，提供一种微元件的制造方法，包括：利用上述形态之曝光装置或由曝光装置的制造方法所制造出的曝光装置，把所定图案曝光至感光性基板上的曝光工序；以及对曝光工序所曝光过的感光性基板进行显影的显影工序。

依照本发明的第4形态，因为利用上述形态之曝光装置或由曝光装置的制造方法所制造出的曝光装置来制造微元件，所以，可把掩模的图案高精度地曝光至大型感光基板上，且可获得良好的微元件。

本发明对大型的感光性基板，例如是外径超过500mm的感光性基板进行曝光的装置、方法特别地有效。在此，感光性基板的外径是指感光性基板的一边或是感光性基板的对角线。

依照本发明的曝光装置，可把多个架台部分离再以车辆承载、搬运。以此方式，可提供的曝光装置为具备能够载置大型基板的基板载台。