[实用新型]晶面取向加工X射线定位仪无效
| 申请号： | 200620039005.6 | 申请日： | 2006-01-17 |
| 公开（公告）号： | CN201044947Y | 公开（公告）日： | 2008-04-09 |
| 发明（设计）人： | 李汶军;李根法 | 申请（专利权）人： | 李汶军;李根法 |
| 主分类号： | B24B7/22 | 分类号： | B24B7/22;B28D5/00 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 200083上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及一种晶面取向加工X射线定位仪，其结构包括X射线测量光路，其特征在于：其结构还包括方向调节夹具(2)、磁体基准(4)和磁体基准的平移、旋转调节机构，方向调节夹具位于X射线测量光路和磁体基准之间，并锁定在磁体基准上，磁体基准安装在磁体基准的平移、旋转调节机构上，其中X射线测量光路包括X射线管(1)、单色器、计数器(3)、放大器，磁体基准相对X射线测量光路的前后距离和旋转角度采用磁体基准的平移或旋转机构调节。本技术具有晶面加工精度高，便于操作，测量工作效率高的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 取向 加工 射线 定位 | ||
【主权项】：
1.一种晶面取向加工X射线定位仪，其结构包括X射线测量光路，其特征在于：其结构还包括方向调节夹具(2)、磁体基准(4)和磁体基准的平移、旋转调节机构，方向调节夹具位于X射线测量光路和磁体基准之间，并锁定在磁体基准上，磁体基准安装在磁体基准的平移、旋转调节机构上。
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