[实用新型]晶面取向加工X射线定位仪无效
| 申请号: | 200620039005.6 | 申请日: | 2006-01-17 |
| 公开(公告)号: | CN201044947Y | 公开(公告)日: | 2008-04-09 |
| 发明(设计)人: | 李汶军;李根法 | 申请(专利权)人: | 李汶军;李根法 |
| 主分类号: | B24B7/22 | 分类号: | B24B7/22;B28D5/00 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 200083上海*** | 国省代码: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 取向 加工 射线 定位 | ||
1.一种晶面取向加工X射线定位仪,其结构包括X射线测量光路,其特征在于:其结构还包括方向调节夹具(2)、磁体基准(4)和磁体基准的平移、旋转调节机构,方向调节夹具位于X射线测量光路和磁体基准之间,并锁定在磁体基准上,磁体基准安装在磁体基准的平移、旋转调节机构上。
2.根据权利要求1所述的晶面取向加工X射线定位仪,其特征在于所述的方向调节夹具包括晶体固定架(27)、两种方向调节螺钉(23)和(29)和支架基准(26),方向调节螺钉(23)和(29)分别和支架基准(26)通过螺纹配合,方向调节螺钉的顶端顶在晶体固定架上,被加工晶体通过粘接或采用螺钉固定在晶体固定架上。
3.根据权利要求1所述的晶面取向加工X射线定位仪,其特征是所述的X射线测量光路包括X射线管(1)、单色器(17)、中心顶针(8)、计数器(3)和放大器(18),其中,中心顶针(8)的顶端位于X射线入射光和X射线反射光的交叉点上。
4.根据权利要求1所述的晶面取向加工X射线定位仪,其特征是所述的磁体基准的平移、旋转调节机构中的磁体基准的平移调节机构包括底板(6)、平台(5)、丝杆(15)、导轨(13)和手柄(14),手柄(14)固定在丝杆(15)上,平台(5)与底板(6)通过精密导轨(13)连接,丝杆与平台通过螺纹配合,底板与手柄(14)通过轴承连接。
5.根据权利要求1所述的晶面取向加工X射线定位仪,其特征是所述的磁体基准的平移、旋转调节机构中的安装在平台(5)上的磁体基准的旋转调节机构包括旋转轴(16)、磁体基准(4)、基准调节板(19)、锁定螺钉(20)、调节螺钉(21)和千分表(22),磁体基准安装在基准调节板上,基准调节板(19)与平台之间通过旋转轴(16)连接,调节螺钉(21)与平台之间通过螺纹配合,调节螺钉(21)的顶端顶在基准调节板(19)上,千分表(22)的顶端顶在基准调节板(19)上,磁体基准的旋转角度由千分表(22)显示。
6.根据权利要求1所述的晶面取向加工X射线定位仪,其特征是所述的磁体基准的平移、旋转调节机构中的固定在底板(6)下的旋转调节机构包括手柄(12)、角度数显器(11)、旋转轴(7)、蜗轮,底板(6)安装在旋转轴(7)上,手柄(12)与旋转轴(7)之间通过精密蜗轮连接,磁体基准的转动角度由角度数显器(11)显示。
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