[发明专利]摆阀及控制反应腔室压力的方法无效
| 申请号： | 200610164904.3 | 申请日： | 2006-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN101196258A | 公开（公告）日： | 2008-06-11 |
| 发明（设计）人： | 荣延栋 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | F16K99/00 | 分类号： | F16K99/00 |
| 代理公司： | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵镇勇;郭宗胜 |
| 地址： | 100016北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种摆阀及通过该摆阀控制反应腔室的压力的方法，摆阀安装于反应腔室的抽气口处，通过轴与反应腔室铰接，可绕轴作横向旋转，使摆阀相对抽气口做平移运动；还可绕轴作纵向旋转，使摆阀相对抽气口做旋转运动；平移运动与旋转运动可同时进行，也可以单独进行。控制装置根据设定的压力值及向反应腔室供入的气体流量，自动控制摆阀的平移运动及旋转运动，用以控制摆阀对抽气口的开启大小，进而控制反应腔室压力。主要适用于半导体刻蚀设备的反应腔室，也适用于其它类似的腔室。 | ||
| 搜索关键词： | 控制 反应 压力 方法 | ||
【主权项】：
1.一种摆阀，安装于反应腔室的抽气口处，用于控制反应腔室的压力，所述摆阀通过轴与反应腔室铰接，其特征在于，所述摆阀可绕轴作横向旋转，使摆阀相对抽气口做平移运动；所述摆阀可绕轴作纵向旋转，使摆阀相对抽气口做旋转运动；所述平移运动与旋转运动可同时进行，也可以单独进行。
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