[发明专利]摆阀及控制反应腔室压力的方法无效
| 申请号： | 200610164904.3 | 申请日： | 2006-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN101196258A | 公开（公告）日： | 2008-06-11 |
| 发明（设计）人： | 荣延栋 | 申请（专利权）人： | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 |
| 主分类号： | F16K99/00 | 分类号： | F16K99/00 |
| 代理公司： | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人： | 赵镇勇;郭宗胜 |
| 地址： | 100016北京市*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 控制 反应 压力 方法 | ||
1.一种摆阀，安装于反应腔室的抽气口处，用于控制反应腔室的压力，所述摆阀通过轴与反应腔室铰接，其特征在于，
所述摆阀可绕轴作横向旋转，使摆阀相对抽气口做平移运动；
所述摆阀可绕轴作纵向旋转，使摆阀相对抽气口做旋转运动；
所述平移运动与旋转运动可同时进行，也可以单独进行。
2.根据权利要求1所述的摆阀，其特征在于，所述的摆阀与控制装置电连接，所述控制装置自动控制摆阀的平移运动和/或旋转运动。
3.一种控制反应腔室压力的方法，通过控制上述摆阀对抽气口的开启大小控制反应腔室压力，其特征在于，所述摆阀对抽气口的开启大小通过摆阀相对抽气口的平移运动和/或旋转运动实现。
4.根据权利要求3所述的调节反应腔室压力的方法，其特征在于，所述摆阀的平移运动和/或旋转运动由控制装置根据设定的压力值自动控制。
5.根据权利要求4所述的调节反应腔室压力的方法，其特征在于，所述控制装置还根据向反应腔室供入的气体流量控制摆阀的平移运动和/或旋转运动。
6.根据权利要求5所述的调节反应腔室压力的方法，其特征在于，
当向反应腔室供入的气体流量为50sccm，且设定的压力小于等于50mT时，控制装置通过控制摆阀相对抽气口的平移运动控制反应腔室的压力；
当向反应腔室供入的气体流量为50sccm，且设定的压力大于50mT时，控制装置通过控制摆阀相对抽气口的平移运动及旋转运动控制反应腔室的压力。
7.根据权利要求5所述的调节反应腔室压力的方法，其特征在于，
当向反应腔室供入的气体流量为75sccm，且设定的压力小于等于45mT时，控制装置通过控制摆阀相对抽气口的平移运动控制反应腔室的压力；
当向反应腔室供入的气体流量为75sccm，且设定的压力大于45mT时，控制装置通过控制摆阀相对抽气口的平移运动及旋转运动控制反应腔室的压力。
8.根据权利要求5所述的调节反应腔室压力的方法，其特征在于，
当向反应腔室供入的气体流量为100sccm，且设定的压力小于等于40mT时，控制装置通过控制摆阀相对抽气口的平移运动控制反应腔室的压力；
当向反应腔室供入的气体流量为100sccm，且设定的压力大于40mT时，控制装置通过控制摆阀相对抽气口的平移运动及旋转运动控制反应腔室的压力。
9.根据权利要求5所述的调节反应腔室压力的方法，其特征在于，
当向反应腔室供入的气体流量为150sccm，且设定的压力小于等于35mT时，控制装置通过控制摆阀相对抽气口的平移运动控制反应腔室的压力；
当向反应腔室供入的气体流量为150sccm，且设定的压力大于35mT时，控制装置通过控制摆阀相对抽气口的平移运动及旋转运动控制反应腔室的压力。
10.根据权利要求5所述的调节反应腔室压力的方法，其特征在于，
当向反应腔室供入的气体流量为200sccm，且设定的压力小于等于30mT时，控制装置通过控制摆阀相对抽气口的平移运动控制反应腔室的压力；
当向反应腔室供入的气体流量为200sccm，且设定的压力大于30mT时，控制装置通过控制摆阀相对抽气口的平移运动及旋转运动控制反应腔室的压力。
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