[发明专利]用于热和等离子体增强气相沉积的设备和其操作方法

摘要

本发明涉及一种用于在衬底上进行气相沉积的方法、计算机可读介质和系统，包括：将气相沉积系统的第一组件保持在第一温度；将气相沉积系统的第二组件保持在低于第一温度的降低的温度；将衬底布置在第一组件的处理空间中，所述处理空间与第二组件的转移空间真空隔离；以及将材料沉积在衬底上。因此，所述系统包括第一组件，其具有配置来便于材料沉积的处理空间；第二组件，其被耦合到第一组件，并且具有便于将衬底转入或者转出沉积系统的转移空间；衬底台，其连接到所述第二组件，并且配置来支撑衬底；以及密封部件，其被配置来将处理空间与转移空间隔离。第一组件被配置为保持在第一温度下，第二组件被配置为保持在低于第一温度的降低温度下。

主权项

1.一种用于在衬底上形成沉积物的沉积系统，包括：第一组件，其具有配置来便于材料沉积的处理空间；第二组件，其被耦合到所述第一组件，并且具有便于将所述衬底转入或者转出所述沉积系统的转移空间；衬底台，其连接到所述第二组件，并且配置来支撑所述衬底；密封部件，其被配置来将所述处理空间与所述转移空间隔离；其中，所述第一组件被配置为保持在第一温度下，所述第二组件被配置为保持在低于所述第一温度的降低温度下。