[发明专利]流体喷射装置的制造方法无效
| 申请号： | 200610138610.3 | 申请日： | 2006-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN101177067A | 公开（公告）日： | 2008-05-14 |
| 发明（设计）人： | 陈苇霖;胡宏盛 | 申请（专利权）人： | 明基电通股份有限公司 |
| 主分类号： | B41J2/16 | 分类号： | B41J2/16;B41J2/14;B05B17/00 |
| 代理公司： | 北京康信知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 章社杲 |
| 地址： | 台湾省*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供一种流体喷射装置的制造方法，包括：提供基底，具有第一面及第二面，且第二面与第一面相对；形成图案化的多孔性结构区于该基底内；形成第一结构层于该基底的该第一面上及覆盖该图案化的多孔性结构区；由该基底的该第二面蚀刻该基底并暴露该图案化的多孔性结构区，以形成流体通道；去除该图案化的多孔性结构区以形成连接该流体通道的流体腔；以及图案化该第一结构层以在喷孔预定区上形成开口。 | ||
| 搜索关键词： | 流体 喷射 装置 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种流体喷射装置的制造方法，包括：提供基底，其具有第一面及一第二面，且所述第二面与所述第一面相对；形成图案化的多孔性结构区于所述基底内；形成第一结构层于所述基底的所述第一面上并覆盖所述图案化的多孔性结构区；由所述基底的所述第二面蚀刻所述基底并暴露所述图案化的多孔性结构区，以形成流体通道；去除所述图案化的多孔性结构区以形成连接所述流体通道的流体腔；以及图案化所述第一结构层以在喷孔预定区上形成开口。
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