[发明专利]用于超高真空系统的磁控溅射阴极靶无效

专利信息
申请号: 200610096651.0 申请日: 2006-10-14
公开(公告)号: CN101161855A 公开(公告)日: 2008-04-16
发明(设计)人: 李新化;邱凯;尹志军;钟飞;陈家荣 申请(专利权)人: 中国科学院合肥物质科学研究院
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 230031*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明公开了一种用于超高真空系统的磁控溅射阴极靶。它的上、下法兰(15,16)内置有相通的冷却水槽(13,9),进、出水管(1,2)隔断冷却水槽(9)且与其相焊接,上法兰(15)上端部与靶材安装罩(12)旋接、腔体中置有磁铁托(10)和磁铁(11)、下端面与下法兰(16)间置有位于内、外层刀口(7,8)处的金属密封圈(17,18),并经螺钉(14)固定,小法兰(21)焊接于出水管(2)外,其与屏蔽罩(19)和基座法兰(22)间置有绝缘片(4,6)、且与贯通有抽气管(3)的基座法兰(22)间置有两只○型胶圈(23,24),并经其外套装绝缘套筒(5)的螺钉(20)固定。它的真空度高达6×10-8Pa,可实现高质量高纯度金属或非金属薄膜的制备。
搜索关键词: 用于 超高 真空 系统 磁控溅射 阴极
【主权项】:
1.一种用于超高真空系统的磁控溅射阴极靶,包括屏蔽罩(19)内的磁铁托(10)、磁铁(11)和水冷部件,其特征在于:(a)所说水冷部件包含相连通的上法兰(15)内置有的覆盖缠绕式冷却水槽(13)、下法兰(16)内置有的冷却水槽(9)、进水管(1)和出水管(2),其中,所说进水管(1)套装于所说出水管(2)中,且隔断所说冷却水槽(9)并与其焊接连通连接,所说出水管(2)与所说冷却水槽(9)的余部焊接连通连接;(b)所说上法兰(15)的上端部与靶材安装罩(12)经其相互间的螺纹旋接、腔体中置有磁铁托(10)和位于其上的磁铁(11)、下端面与所说下法兰(16)间置有两只金属密封圈(17,18),并经螺钉(14)相固定连接,所说两只金属密封圈(17,18)位于所说上法兰(15)和所说下法兰(16)上分别对称置有的内层刀口(7)和外层刀口(8)处;(c)所说出水管(2)外焊接连接有小法兰(21),所说小法兰(21)与所说屏蔽罩(19)和基座法兰(22)间均置有绝缘片(4,6)、且与所说基座法兰(22)间还置有两只O型胶圈(23,24),并经螺钉(20)将其与所说屏蔽罩(19)和所说基座法兰(22)相固定连接,所说螺钉(20)外套装有绝缘套筒(5),所说两只O型胶圈(23,24)间的基座法兰(22)上贯通有抽气管(3)。
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