[发明专利]用于超高真空系统的磁控溅射阴极靶

权利要求书

1.一种用于超高真空系统的磁控溅射阴极靶，包括屏蔽罩(19)内的磁铁托(10)、磁铁(11)和水冷部件，其特征在于：

(a)所说水冷部件包含相连通的上法兰(15)内置有的覆盖缠绕式冷却水槽(13)、下法兰(16)内置有的冷却水槽(9)、进水管(1)和出水管(2)，其中，所说进水管(1)套装于所说出水管(2)中，且隔断所说冷却水槽(9)并与其焊接连通连接，所说出水管(2)与所说冷却水槽(9)的余部焊接连通连接；

(b)所说上法兰(15)的上端部与靶材安装罩(12)经其相互间的螺纹旋接、腔体中置有磁铁托(10)和位于其上的磁铁(11)、下端面与所说下法兰(16)间置有两只金属密封圈(17，18)，并经螺钉(14)相固定连接，所说两只金属密封圈(17，18)位于所说上法兰(15)和所说下法兰(16)上分别对称置有的内层刀口(7)和外层刀口(8)处；

(c)所说出水管(2)外焊接连接有小法兰(21)，所说小法兰(21)与所说屏蔽罩(19)和基座法兰(22)间均置有绝缘片(4，6)、且与所说基座法兰(22)间还置有两只O型胶圈(23，24)，并经螺钉(20)将其与所说屏蔽罩(19)和所说基座法兰(22)相固定连接，所说螺钉(20)外套装有绝缘套筒(5)，所说两只O型胶圈(23，24)间的基座法兰(22)上贯通有抽气管(3)。

2.根据权利要求1所述的用于超高真空系统的磁控溅射阴极靶，其特征是金属密封圈(17，18)为无氧铜密封圈或铝丝密封圈或银丝密封圈。

3.根据权利要求1所述的用于超高真空系统的磁控溅射阴极靶，其特征是绝缘片(4，6)为聚四氟片。

4.根据权利要求1所述的用于超高真空系统的磁控溅射阴极靶，其特征是O型胶圈(23，24)为维通型氟橡胶圈。

5.根据权利要求1所述的用于超高真空系统的磁控溅射阴极靶，其特征是绝缘套筒(5)为聚四氟套筒。