[发明专利]图像感测元件及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200610077069.X 申请日: 2006-04-26
公开(公告)号: CN101064326A 公开(公告)日: 2007-10-31
发明(设计)人: 王铭义 申请(专利权)人: 联华电子股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L21/82
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波;侯宇
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 一种图像感测元件,包括具有光感测区与晶体管区的基底、光电二极管、晶体管、介电层、金属内连线、金属导线、共形保护层、滤色层、透镜平坦层以及微透镜。光电二极管配置于光感测区的基底中、晶体管配置于晶体管区的基底上、介电层配置于基底上。金属内连线和金属导线则分别位于光感测区以外的介电层中和介电层上。共形保护层则是配置于介电层上并覆盖金属导线。滤色层配置于光感测区中的共形保护层上,且滤色层的底部低于金属导线的顶部。而透镜平坦层与微透镜则依序配置于上述结构上。
搜索关键词: 图像 元件 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种图像感测元件,包括:基底,具有光感测区与晶体管区;光电二极管,配置于该光感测区的该基底中;晶体管,配置于该晶体管区的该基底上,且该晶体管与该光电二极管电连接;介电层,配置于该基底上,覆盖该晶体管与该光电二极管;金属内连线,位于该光感测区以外的该介电层中;金属导线,配置于该光感测区以外的该介电层上;共形保护层,配置于该介电层上并覆盖该金属导线;滤色层,配置于该光感测区中的该共形保护层上,且该滤色层的底部低于该金属导线的顶部;透镜平坦层,配置于该滤色层与该共形保护层上;以及微透镜,配置于该光感测区中的该透镜平坦层上。
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