[发明专利]偏振光照射装置无效
| 申请号: | 200610074623.9 | 申请日: | 2006-04-20 | 
| 公开(公告)号: | CN1854900A | 公开(公告)日: | 2006-11-01 | 
| 发明(设计)人: | 中村征司;田中米太;辻宏二 | 申请(专利权)人: | 优志旺电机株式会社 | 
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/027;G02F1/1337 | 
| 代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人: | 陈英俊 | 
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP | 
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| 摘要: | 本发明的课题是防止因掩膜的弯曲产生的消光比的下降和偏振轴的偏差。在本发明,从光照射部(10)射出的偏振光经由掩膜(M),相对于基板(W)的取向膜入射角度呈θ地倾斜入射。在光照射部的偏振元件(13)的光入射侧设置具有光透射窗(17a)的第一隔壁(17),在光照射部的光射出侧设置覆盖掩膜及掩膜的周围的第二隔壁(18)。从第一隔壁至第二隔壁的空间(S),用排气孔(16b)上设置的风扇(40)等的排气机构进行减压。由此,被掩膜台(20)保持的掩膜从压力高的光射出侧向压力低的光入射侧推压而抬起,矫正由掩膜的自重产生的弯曲。掩膜的弯曲被矫正,所以从光照射部射出的偏振光以相等的角度入射到掩膜,可以防止消光比下降和偏振轴偏差。 | ||
| 搜索关键词: | 偏振光 照射 装置 | ||
【主权项】:
                1.一种偏振光照射装置,用偏振元件对来自光源的光进行偏振,将被偏振的光经由形成有图案的掩膜照射在取向膜上,其特征在于,将掩膜的光入射侧空间的压力设为低于掩膜的光射出侧空间的压力。
            
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