[发明专利]光学计量系统和计量标记表征装置有效
| 申请号: | 200610063645.5 | 申请日: | 2006-12-29 |
| 公开(公告)号: | CN1991586A | 公开(公告)日: | 2007-07-04 |
| 发明(设计)人: | N·P·范德阿;A·J·邓博夫;R·M·M·马蒂杰;H·G·特尔莫舍 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 曾祥夌;梁永 |
| 地址: | 荷兰费*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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| 摘要: | 公开了一种光学计量系统,它具有:测量系统,配置成照射计量标记并纪录部分反射的、透射的、或二者的电磁场;以及表征装置,配置成根据所记录的场来确定表明计量标记结构的标记形状参数,表征装置包括:场计算单元,配置成基于预期场的代数特征值-特征向量表示根据理论参考标记来计算反射、透射、或二者的预期场;场导数计算单元,配置成通过首先导出特征值-特征向量表示的特征值和特征向量的对应导数的解析形式,来计算预期场相对于标记形状参数的一阶导数、高阶导数、或二者;以及优化单元,配置成使用场和场导数计算单元的输出来确定预期场基本上与所记录场相匹配的优化标记形状参数。 | ||
| 搜索关键词: | 光学 计量 系统 标记 表征 装置 | ||
【主权项】:
1.一种光学计量系统,包括:测量系统,配置成照射计量标记,并纪录部分反射的、透射的、或二者的电磁场;以及表征装置,配置成从所记录的场来确定表明所述计量标记结构的标记形状参数,所述表征装置包括:场计算单元,配置成根据预期场的代数特征值-特征向量表示从理论参考标记来计算用于反射、透射、或二者的所述预期场;场导数计算单元,配置成通过首先导出所述特征值-特征向量表示的特征值和特征向量的对应导数的解析形式来计算所述预期场相对于所述标记形状参数的一阶导数、高阶导数、或二者;以及优化单元,配置成使用所述场和场导数计算单元的输出来确定所述预期场基本上与所记录的场相匹配的优化标记形状参数。
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