[发明专利]化学气相沉积室的清洁方法有效
| 申请号： | 200610030797.5 | 申请日： | 2006-09-04 |
| 公开（公告）号： | CN101139703A | 公开（公告）日： | 2008-03-12 |
| 发明（设计）人： | 白杰;朴松源;何有丰 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/00 | 分类号： | C23C16/00;B08B3/00;B08B5/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 逯长明 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 公开了一种化学气相沉积室的清洁方法，该方法包括步骤：对所述沉积室进行抽真空处理；加热所述沉积室；通入清洁气体去除所述沉积室内的附着物；停止通入清洁气体，完成清洁。本发明的化学气相沉积室的清洁方法，可以代替湿法清洁方法实现对沉积室的全面清洁，操作方便、快捷，并可减少设备的闲置时间，提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 沉积 清洁 方法 | ||
【主权项】：
1.一种化学气相沉积室的清洁方法，其特征在于，包括：对所述沉积室进行抽真空处理；加热所述沉积室；通入清洁气体去除所述沉积室内的附着物；停止通入所述清洁气体，完成清洁。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
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C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
