[发明专利]物理汽相沉积设备的辅助控制装置和方法有效
申请号: | 200610030312.2 | 申请日: | 2006-08-23 |
公开(公告)号: | CN101130857A | 公开(公告)日: | 2008-02-27 |
发明(设计)人: | 严骏;陈谦 | 申请(专利权)人: | 上海华虹NEC电子有限公司 |
主分类号: | C23C14/54 | 分类号: | C23C14/54;C23C14/24 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人: | 顾继光 |
地址: | 201206上*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种物理汽相沉积设备的辅助控制装置和方法,旨在对半导体元件进行物理汽相沉积过程中的各种状态进行监视、记录与显示,从而克服了物理汽相沉积设备发生故障后进行膜层补长和故障修复时带来的问题。包括:一台计算机,其上的通讯接口应与所述物理汽相沉积设备上的控制系统中的通讯模块的通讯接口相匹配;一通讯线,该通讯线两端的接口应与前述两个通讯接口相匹配,将个人终端与所述控制系统连接在一起;以及一运行于计算机上的客户程序,该客户程序通过一定的通讯协议,与物理汽相沉淀设备进行通讯。 | ||
搜索关键词: | 物理 沉积 设备 辅助 控制 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种物理汽相沉积设备的辅助控制装置,其特征在于,包括:一台计算机,其上的通讯接口应与所述物理汽相沉积设备上的控制系统中的通讯模块的通讯接口相匹配;一通讯线,该通讯线两端的接口应与前述两个通讯接口相匹配,将个人终端与所述控制系统连接在一起;以及一运行于计算机上的客户程序,该客户程序通过一定的通讯协议,与物理汽相沉淀设备进行通讯。
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