[发明专利]物理汽相沉积设备的辅助控制装置和方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种物理汽相沉积设备的辅助控制装置，尤其涉及一种用于监视、记录与显示物理汽相沉积过程中的状态的辅助控制装置。本发明还涉及一种物理汽相沉积设备的辅助控制方法。

背景技术

目前的PVD工艺的半导体生产设备，例如日本ANELVA公司生产的I-1060SVII PLUS1，其控制系统使用的是GL60H、GL70H PLC单元，通讯模块为IF64，其功能和速度存在很大局限性，如没有设备履历(仅有故障履历)无法对搬送过程、工艺过程进行追溯，无法单独对一个腔运行获取(工艺条件)等，这给设备发生故障后进行膜层补长和故障修复时带来很多问题。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种物理汽相沉积设备的辅助控制装置，可在对半导体元件进行物理汽相沉积过程中的各种状态进行监视、记录与显示，为此还提供一种物理汽相沉积设备的辅助控制方法。

为解决上述技术问题，本发明是通过以下技术方案实现的：

本发明所述物理汽相沉积设备的辅助控制装置包括：一台计算机，其上的通讯接口应与所述物理汽相沉积设备上的控制系统中的通讯模块的通讯接口相匹配；一通讯线，该通讯线两端的接口应与前述两个通讯接口相匹配，将个人终端与所述控制系统连接在一起；以及一运行于计算机上的客户程序，该客户程序通过一定的通讯协议，与物理汽相沉淀设备进行通讯。

本发明所述物理汽相沉积设备的辅助控制方法包括以下步骤：

(1)将控制系统和个人终端进行连接，以开始进行通信；

(2)读取物理汽相设备中腔体的配置；

(3)根据记录单元的变化情况记录搬送履历；

(4)通过强制改变记录单元的状态实现获取工艺条件的功能；

(5)通过对记录单元的长时间监视实现图表显示的功能。

本发明由于采用了上述技术方案，具有这样的有益效果，即实现了物理汽相沉积设备的搬送履历功能，实现了工艺履历的记录和查询；实现了手动在各个腔运行获取工艺条件的功能；还实现了不用外接设备就可对任意输入输出信号的变化趋势进行监视，并画出图表的功能；从而克服了物理汽相沉积设备发生故障后进行膜层补长和故障修复时的问题。

附图说明

下面结合附图与具体实施方式对本发明作进一步详细的说明：

附图是本发明所述的辅助控制装置的结构图。

具体实施方式

如图1所示，本发明所述的物理汽相淀积设备的辅助控制装置主要包括：一台计算机，其上的通讯接口应与所述物理汽相沉积设备上的控制系统中的通讯模块的通讯接口相匹配，一般为COM接口；一通讯线，该通讯线两端的接口应与前述两个通讯接口相匹配，一般为RS232通讯线，通过该通讯线可将个人终端与所述控制系统连接在一起；以及一运行于计算机上的客户程序，该客户程序通过一定的通讯协议，如MEMOBUS协议，与物理汽相沉淀设备进行通讯，以进行数据交换，实现对该物理汽相沉淀设备的状态监视、记录和显示的功能。

为了实现上述功能，可采用以下步骤完成：

(1)将控制系统和个人终端进行连接，以开始进行通信；

(2)读取物理汽相设备中腔体的配置；

(3)根据记录单元的变化情况记录搬送履历；

(4)通过强制改变记录单元的状态实现获取工艺条件的功能；

(5)通过对记录单元的长时间监视实现图表显示的功能。