[发明专利]正型抗蚀剂组合物及使用其形成抗蚀图形的方法有效
| 申请号： | 200610007164.2 | 申请日： | 2002-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN1818784A | 公开（公告）日： | 2006-08-16 |
| 发明（设计）人： | 岩井武;久保田尚孝;藤村悟史;宫入美和;羽田英夫 | 申请（专利权）人： | 东京应化工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039;G03F7/16;G03F7/20;G03F7/26 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 陈长会 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 提供了一种正型树脂组合物，它含有：(A)一种树脂组分，它在主链内含有(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，并在酯基侧链部分结合了含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团，因此在酸的作用下增加了它在碱中的溶解度；(B)一种能在曝光时产生酸的产酸剂组分；及(C)有机溶剂，其中：组分(A)含有甲基丙烯酸酯衍生的结构单元和丙烯酸酯衍生的结构单元二者。依据这种抗蚀剂组合物，可形成一种在蚀刻时几乎不出现表面的粗糙和线边缘粗糙，且还提供出色的分辨能力和聚焦范围深度广的抗蚀图形。 | ||
| 搜索关键词： | 正型抗蚀剂 组合 使用 形成 图形 方法 | ||
【主权项】：
1.一种正型抗蚀剂组合物，它含有：(A)一种树脂组分，树脂组分主链内含有(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，在酯基侧链部分结合了包含可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团，由此在酸作用下它在碱中的溶解度增加了；(B)一种曝光时产生酸的产酸剂组分；及(C)一种有机溶剂；其由所述组分(A)含有：(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，其包含含有可被酸离解的、抑制溶解的基团的多环基团；(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，其包含含有内酯的单环基团或多环基团；以及(甲基)丙烯酸酯衍生的结构单元，其包含含有羟基的多环基团，其中所述组分(A)中甲基丙烯酸酯衍生的结构单元和丙烯酸酯衍生的结构单元的相对数量是：相对于甲基丙烯酸酯衍生的结构单元和丙烯酸酯衍生的结构单元合并的摩尔数，甲基丙烯酸酯衍生的结构单元占10～52摩尔％；及丙烯酸酯衍生的结构单元占48～90摩尔％。
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