[发明专利]生产系统、生产方法、管理装置、管理方法以及程序无效
| 申请号： | 200580051556.2 | 申请日： | 2005-09-13 |
| 公开（公告）号： | CN101258453A | 公开（公告）日： | 2008-09-03 |
| 发明（设计）人： | 冈安俊幸;须川成利;寺本章伸 | 申请（专利权）人： | 爱德万测试株式会社;国立大学法人东北大学 |
| 主分类号： | G05B19/418 | 分类号： | G05B19/418 |
| 代理公司： | 北京英特普罗知识产权代理有限公司 | 代理人： | 齐永红 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供一种通过多个生产工序生产电子器件的生产系统，具有：生产线，其配备有对相对多个生产工序进行处理的生产装置，生产晶片，电子器件；生产控制部，其通过生产线制造包括含多个被测定晶体管的测试电路的晶片；测定部，其测定测试电路中含有的多个被测定晶体管各自的电特性；确定部，其根据电特性不满足预定基准的被测定晶体管在前述晶片上的分布，确定多个生产工序中产生不良的生产工序；设定变更部，其变更生产装置的处理条件，该生产装置实施与产生前述不良的生产工序对应的处理。 | ||
| 搜索关键词： | 生产 系统 方法 管理 装置 以及 程序 | ||
【主权项】：
1、一种管理方法，是管理采用多道生产工序生产电子器件的生产线产品质量的管理方法，其特征在于，包括：生产阶段，其通过前述生产线生产晶片，该晶片具有含多个被测定晶体管的测试电路；测定阶段，其测定前述多个被测定晶体管各自的电特性；确定阶段，其根据前述电特性不满足预定基准的前述被测定晶体管在前述晶片上的分布，确定前述多道生产工序中产生不良的生产工序。
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