[发明专利]溅射磁控管

摘要

本发明涉及磁控管，该磁控管具有平面靶材(20)和平面磁体系统(1)。平面磁体系统具有条形第一磁极(26)和框架状第二磁极(2)，第一磁极(26)具有扩大的末端，磁体系统上当靶材静止时发生运动的点在环路上运动。如果磁体系统是静止的，则靶材的每点在这样的环路上运动。在这种彼此相对运动过程中，磁体系统和靶材位于平行平面内。在此情况下，环路直径(D)对应于电子流的两个平行臂之间的平均距离，所述电子流是在第一磁极与第二磁极之间的溅射操作过程中形成的。由于磁体被布置在电子流的弯曲区域中，使磁极线在该处形成圆弧或圆形表面，所以避免了靶材中的孔。

主权项

1.一种溅射磁控管，具有平面靶材和平面磁体结构，其中，所述靶材结构包括条形第一磁极和框架状第二磁极，并且其中，所述靶材和所述磁体结构能够彼此相对运动，使得所述靶材的每个点相对于所述磁体结构在圆周上运动，其特征在于，所述条形第一磁极(3、26)的末端以环形方式扩张。