[发明专利]溅射磁控管

权利要求书

1.一种溅射磁控管，具有平面靶材和平面磁体结构，其中，所述靶材结构包括条形第一磁极和框架状第二磁极，并且其中，所述靶材和所述磁体结构能够彼此相对运动，使得所述靶材的每个点相对于所述磁体结构在圆周上运动，其特征在于，所述条形第一磁极(3、26)的末端以环形方式扩张。

2.根据权利要求1所述的溅射磁控管，其特征在于，所述扩张的末端具有直径(D)，所述直径(D)至少等于等离子体管的两个平行臂(12、13)之间的平均距离，所述等离子体管是在所述第一磁极与所述第二磁极(3、2)之间的溅射操作过程中产生的。

3.根据权利要求1所述的溅射磁控管，其特征在于，所述条形第一磁极(3、26)的每个末端包括多个小条形磁体。

4.根据权利要求3所述的溅射磁控管，其特征在于，所述每个末端包括下述磁体：平行于所述框架状磁极(2)的短边(6、7)延伸的条形磁体(33、38)、平行于长边(4、5)延伸的两个条形磁体(32、34；37、39)、以及与所述第一条形磁极(26)的纵轴成大约45度角延伸的两个条形磁体(31、35)。

5.根据权利要求4所述的溅射磁控管，其特征在于，所述小条形磁体(33、38、32、34；37、39、31、35)在空间上一个接一个地布置。

6.根据权利要求3所述的溅射磁控管，其特征在于，每个末端包括多个条形磁体(53-57)，所述多个条形磁体(53-57)平行于所述框架状磁极(2)的长边(4、5)延伸，其长度在朝向这些长边(4、5)的方向上递减。

7.根据权利要求1所述的溅射磁控管，其特征在于，所述条形第一磁极(3、26)的每个末端包括环形磁体(70、71)。

8.根据权利要求1所述的溅射磁控管，其特征在于，所述条形磁极(3、26)的每个末端包括圆盘(72、73)。

9.根据权利要求1所述的溅射磁控管，其特征在于，所述第一磁极(3、26)的以环形方式扩张的末端的磁场线相对于所述靶材(20)的表面具有大于20度的角度。