[发明专利]含有金属材料的构件，物理气相沉积靶，薄膜，和形成金属构件的方法无效
| 申请号： | 200580049002.9 | 申请日： | 2005-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN101155945A | 公开（公告）日： | 2008-04-02 |
| 发明（设计）人： | D·L·莫拉尔斯;S·D·斯特罗瑟斯 | 申请（专利权）人： | 霍尼韦尔国际公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 温宏艳;范赤 |
| 地址： | 美国新*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明包括含有金属材料的构件。该金属材料包含大量晶粒，基本上所有的晶粒都是基本上等轴的，且晶粒具有小于或等于大约30微米的平均晶粒尺寸。该构件通过使用等轴向真空热压特点在于325目大小的起始金属粉末而形成。示例性构件是溅射靶，该溅射靶在横跨溅射表面及其整个厚度上具有高度的均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 含有 金属材料 构件 物理 沉积 薄膜 形成 金属构件 方法 | ||
【主权项】：
1.一种包含金属组合物的构件，该金属组合物由选自金属钼，金属铪，金属锆，金属铼，金属钌，金属铂，金属钽，金属钨，金属铱中的一种或多种材料构成；该金属组合物包括大量晶粒，其绝大部分晶粒基本上是等轴的，组合物包含金属钼时，晶粒的平均晶粒尺寸小于或等于大约30微米，组合物包含金属钌时，小于或等于大约150微米，组合物包含金属钨时，小于或等于大约15微米，组合物包含金属铪、金属铼、金属钽、金属锆、金属铂或金属铱时，小于或等于大约50微米。
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