[发明专利]用于光学涂层的可空气氧化的防划痕防护层无效
| 申请号： | 200580046769.6 | 申请日： | 2005-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN101119941A | 公开（公告）日： | 2008-02-06 |
| 发明（设计）人： | P·A·马施威茨 | 申请（专利权）人： | AFG工业公司 |
| 主分类号： | C03C17/36 | 分类号： | C03C17/36;B32B17/06 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人： | 王英 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明提供一种划痕防护层，其包括沉积在空气接触表面上的金属、金属合金、金属化合物或者金属间化合物层。该划痕防护层一般具有从1到3nm的厚度，且在氧化后不会出现光吸收。该层初始沉积是在未被氧化或氮化的状态下进行的。金属、金属合金、金属化合物或者金属间化合物层的完全氧化是暴露在空气中数天内发生的。如果将该层暴露在等离子体、放电或者含有如氧气或氮气的反应气体的离子束下时，其可以具有2到5nm的厚度。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光学 涂层 空气氧化 划痕 防护 | ||
【主权项】：
1.一种具有改进的划痕防护的制品，其包括：基板，光学涂层，其包括在所述基板上的一或多层，和最外层划痕防护层，其包括防护金属、合金、金属化合物或者金属间化合物层，其中所述最外层划痕防护层厚度为1到3nm。
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