[发明专利]用于光学涂层的可空气氧化的防划痕防护层

权利要求书

1.一种具有改进的划痕防护的制品，其包括：

基板，

光学涂层，其包括在所述基板上的一或多层，和

最外层划痕防护层，其包括防护金属、合金、金属化合物或者金属间化合物层，其中所述最外层划痕防护层厚度为1到3nm。

2.根据权利要求1所述的制品，其中所述金属被完全氧化。

3.根据权利要求1所述的制品，其中所述金属合金或者金属化合物的所述金属部分，选自由铬、铁、钛、锆、铪、铌、钽、钼、钨、铁、铝和硅所组成的组。

4.根据权利要求3所述的制品，其中所述金属部分是锆。

5.根据权利要求1所述的制品，其中所述金属是锆。

6.根据权利要求1所述的制品，其中所述基板是透明基板。

7.根据权利要求6所述的制品，其中所述透明基板是沉积有光学涂层的玻璃基板。

8.根据权利要求7所述的制品，其中所述光学涂层包括一或多层的NiCrO_x、Ag和SiAIN_x。

9.根据权利要求8所述的制品，其中所述金属是锆。

10.根据权利要求1所述的制品，其中所述最外层划痕防护层不改变所述制品在可见光波长或红外波长中的光谱反射系数和/或透射比。

11.根据权利要求1所述的制品，其中所述最外层划痕防护层被沉积到SiAIOxNy层上。

12.一种具有改进的划痕防护的制品，包括：

基板

包括基板上一或多层的光学涂层，和

最外层划痕防护层，其包括防护金属，其中所述最外层划痕防护层厚度为2到5nm。

13.一种用于改进制品上的光学涂层的划痕防护的方法，包括：

在制品上沉积包括一或多层的光学涂层，

在所述光学涂层上沉积1-3nm的包括未被氧化的金属、金属合金、金属化合物或金属间化合物的层，以提供划痕防护层，以及

氧化所述金属、金属合金、金属化合物或金属间化合物层。

14.根据权利要求13所述的方法，其中所述金属合金或金属化合物的所述金属部分，选自由铬、铁、钛、锆、铪、铌、钽、钼、钨、铁镍、铝和硅所组成的组。

15.根据权利要求14所述的方法，其中所述金属部分是锆。

16.根据权利要求13所述的方法，其中所述基板是透明制品。

17.根据权利要求13所述的方法，其中所述基板是玻璃。

18.根据权利要求13所述的方法，其中所述光学涂层包括一或多层的NiCrO_x、Ag和SiAIN_x。

19.根据权利要求13所述的方法，其中通过将所述金属、金属合金、金属化合物或金属间化合物层暴露在空气中将其氧化。

20.根据权利要求13所述的方法，其中将所述划痕防护层沉积到SiAIOxNy层上。

21.根据权利要求13所述的方法，其中所述金属具有小于-150千卡/摩尔的氧化物形成热和高于1600摄氏度的熔点。

22.根据权利要求13所述的方法，其中所述金属具有小于-200千卡/摩尔的氧化物形成热高于1600摄氏度的熔点。

23.根据权利要求13所述的方法，其中在沉积所述金属之后的250小时内，所述金属在环境空气中被基本上氧化到透明状态。

24.根据权利要求23所述的方法，其中在沉积所述金属之后的25小时内，所述金属在环境空气中被基本上氧化到透明状态。

25.根据权利要求24所述的制品，其中在沉积所述金属之后的1小时内，所述金属在环境空气中被基本上氧化到透明状态。